浙江推荐真空镀膜机报价

时间:2020年08月30日 来源:

真空镀膜设备的蒸发源选取原则是什么呢?这是我们关注的一个问题,下面真空镀膜设备厂家分析蒸发源选取原则。

1.有良好的热稳定性,化学性质不活泼,达到蒸发温度时加热器本身的蒸汽压要足够底。 

2.蒸发源的熔点要高于被蒸发物的蒸发温度。加热器要有足够大的热容量。 

3.蒸发物质和蒸发源材料的互熔性必须很底,不易形成合金。 

4.要求线圈状蒸发源所用材料能与蒸发材料有良好的浸润,有较大的表面张力。 

5.对于不易制成丝状、或蒸发材料与丝状蒸发源的表面张力较小时,可采用舟状蒸发源。 真空镀膜机专业供应商!浙江推荐真空镀膜机报价

术语

   1.1真空镀膜vacuumcoating:在处于真空下的基片上制取膜层的一种方法。     

   1.2基片substrate:膜层承受体。

   1.3试验基片testingsubstrate:在镀膜开始、镀膜过程中或镀膜结束后用作测量和(或)试验的基片。

   1.4镀膜材料coatingmaterial:用来制取膜层的原材料。

   1.5蒸发材料evaporationmaterial:在真空蒸发中用来蒸发的镀膜材料。

   1.6溅射材料sputteringmaterial:有真空溅射中用来溅射的镀膜材料。

   1.7膜层材料(膜层材质)filmmaterial:组成膜层的材料。

   1.8蒸发速率evaporationrate:在给定时间间隔内,蒸发出来的材料量,除以该时间间隔

   1.9溅射速率sputteringrate:在给定时间间隔内,溅射出来的材料量,除以该时间间隔。

   1.10沉积速率depositionrate:在给定时间间隔内,沉积在基片上的材料量,除以该时间间隔和基片表面积。

   1.11镀膜角度coatingangle:入射到基片上的粒子方向与被镀表面法线之间的夹角。 上海专业真空镀膜机生产厂家真空镀膜机采购,找哪家?

霍尔离子源

霍尔离子源是阳极在一个强轴向磁场的协作下将工艺气体等离子化。这个轴向磁场的强不平衡性将气体离子分离并形成离子束。由于轴向磁场的作用太强,霍尔离子源离子束需要补充电子以中和离子流。常见的中和源就是钨丝(阴极)。

霍尔离子源的特点是:

1简单耐用。2离子电流与气体流量几乎成比例,可获得较大离子电流。3钨丝一般横跨在出口,收离子束冲击很快会销蚀,尤其对反应气体,一般十几个小时就需更换。并且钨丝还会有一定的污染。

为解决钨丝的缺点。有采用较长寿中和器的,如一个小的空心阴极源。

霍尔离子源可以说是应用较广的离子源。如Veece的Mark I 和 Mark II 离子源。适用的如国产的大部分离子源。

如果镀耐磨装饰膜,膜厚大,需要与机体结合力强,而均匀性要求不高。可用霍尔离子源。其离子电流大,且离子能级也高。如果是镀光学膜,则主要要求离子电流能级集中,离子电流均匀性好。故建议用Kaufman或RF离子源,有条件的可采用ECR(电子回旋)或ICP(感应耦合)离子源。另外,也要考虑到耗材,如用钨丝的霍尔源在反应气体中十来个小时就烧断了。而离子源如ICP离子源可在反应气体中连续工作几百小时。

在使用真空镀膜设备时,每完成200个镀膜程序以上,就应该要用烧碱(NaOH)饱和溶液来清洗设备,烧碱(NaOH)饱和溶液反复擦洗真空室内壁,( 注意人体皮肤不可以直接接触烧碱溶液,以免灼伤)目的是使镀上去的膜料铝(AL)与NaOH发生反应,反应后膜层脱落,并释放出氢气。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽阀内的污垢。每完成200个镀膜程序,就应该清洁工作室一次。在当粗抽泵(滑阀泵,旋片泵)连续工作一个月(雨季减半),也需要更换新油。拧开放油螺栓,放掉旧油,再将泵启动数秒,使泵内的旧油完全排放出来。拧回放油螺栓,加入新油至额定量(油视镜观察)。连续使用半年以上,换油时应将油盖打开,用布擦干净箱内污垢。当扩散泵连续使用6个月以上,抽速明显变慢。扩散泵连续使用6个月以上,抽速明显变慢,或操作失当,充入大气,拆去联结水管,卸下电炉盘,将一级喷嘴拧出,先用汽油将泵腔及泵胆清洗一遍,再用洗衣粉兑水清洗一遍,然后用清水彻底清洗干净,待水份挥发干以后,装好泵胆,加入新扩散泵油,并装回机体,接好水管,装好电炉盘,便可以重新开机。在重新开机前,要注意检漏工作。江苏真空镀膜机厂家,哪家专业?

离子镀:蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面,称为离子镀。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。将基片台作为阴极,外壳作阳极,充入惰性气体(如氩)以产生辉光放电。从蒸发源蒸发的分子通过等离子区时发生电离。正离子被基片台负电压加速打到基片表面。未电离的中性原子(约占蒸发料的95%)也沉积在基片或真空室壁表面。电场对离化的蒸气分子的加速作用(离子能量约几百~几千电子伏)和氩离子对基片的溅射清洗作用,使膜层附着强度提高。离子镀工艺综合了蒸发(高沉积速率)与溅射(良好的膜层附着力)工艺的特点,并有很好的绕射性,可为形状复杂的工件镀膜。


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真空镀膜设备在各个领域都是有着涉及的,所以真空镀膜设备的发展速度也是非常快,下面真空镀膜设备厂家分析各种应用.

真空镀膜设备得到了很广的应用,特别是在薄膜生产中。所制备的各种薄膜已应用于各种光电系统和光学仪器,如数码相机、数码相机、望远镜、投影仪、能量控制、光通信、显示技术、干涉仪、卫星导弹、半导体激光器、微机电系统、信息产业、激光生产等,真空镀膜设备已与人类生活紧密联系在一起。

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