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真空镀膜设备在使用的过程中，它是会出现褐色条纹的情况，那么这种情况应该如何避免呢？下面真空镀膜设备厂家分析出现褐色条纹的原因。

①真空度低 解决方法：清洗真空室内的送铝、蒸镀设备、冷却体系、放卷、卷取设备及导辊;查看抽真空体系;下降环境湿度。

②薄膜释放气体。解决方法：薄膜预枯燥;延伸抽真空时刻。

③喷铝过多。解决方法：进步车速;下降蒸腾舟电流;下降送铝速度。

④蒸腾舟内有杂质。解决方法：清洗蒸腾舟及热屏蔽板。

⑤蒸腾舟老化。解决方法：替换蒸腾舟。 江苏专业真空镀膜机供应商！江苏高质量真空镀膜机供应商

真空镀膜设备的蒸发源选取原则是什么呢？这是我们关注的一个问题，下面真空镀膜设备厂家分析蒸发源选取原则。

1.有良好的热稳定性，化学性质不活泼，达到蒸发温度时加热器本身的蒸汽压要足够底。 

2.蒸发源的熔点要高于被蒸发物的蒸发温度。加热器要有足够大的热容量。 

3.蒸发物质和蒸发源材料的互熔性必须很底，不易形成合金。 

4.要求线圈状蒸发源所用材料能与蒸发材料有良好的浸润，有较大的表面张力。 

5.对于不易制成丝状、或蒸发材料与丝状蒸发源的表面张力较小时，可采用舟状蒸发源。 山东专业真空镀膜机厂家真空镀膜机哪家便宜？当然找光润！

塑料作为镀膜基体材料的特殊性

性塑料的种类很多，并非所有的都可以进行真空镀膜，有的与金属层的结合力很差，没有实用价值，有的与金属镀层的某些物理性质如膨胀系数相差过大，在高温差环境中难以保证其使用性能，所以真空镀膜时，与金属、玻璃等无机物相比，作为基体材料的塑料具有一定的特殊性。

基体耐热性较差

使沉积温度受到制约塑料属于高分子有机物，耐热性较差，特别是光学塑料，一般要在35～45℃的温度下进行镀膜。而真空镀膜时，不论采用什么方法，基体都受到热的影响，如蒸发源的辐射热，高能量的溅射原子撞击基体的动能以及镀膜材料原子的凝聚能等，都会引起基体的温度升高。控制基体温度在允许的范围内，使真空镀膜时的沉积温度受到制约。

真空镀膜设备的工作离不开相应的监测，那么如何监测呢？下面一起来看看吧。

1.目视监控使用双眼监控，因为薄膜在成长的过程中，因为干涉现象会有色彩改变，我们即是依据色彩改变来操控膜厚度的，此种办法有必定的差错，所以不是很精确，需求依托经历。

2.定值监控法此办法使用停镀点不在监控波长四分之一波位，然后由计算机计算在波长一时总膜厚之反射率是多少，此即为中止镀膜点。

3.水晶振动监控使用石英晶体振动频率与其质量成反比的原理工作的。可是石英监控有一个欠好的地方即是当膜厚添加到必定厚度后，振动频率不全然因为石英自身的特性使厚度与频率之间有线性关系，此刻有必要使用新的石英振动片。

4.极值监控法当膜厚度添加的时候其反射率和穿透率会跟着起改变，当反射率或穿透率走到极值点的时候，就能够知道镀膜之光学厚度ND是监控波长（入）的四分之一的整倍数。可是极值的办法差错对比大，因为当反射率或许透过率在极值邻近改变很慢，亦即是膜厚ND添加许多，R/T才有改变。反映对比活络的方位在八分之一波利益。

离子镀：蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面，称为离子镀。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。将基片台作为阴极，外壳作阳极，充入惰性气体（如氩）以产生辉光放电。从蒸发源蒸发的分子通过等离子区时发生电离。正离子被基片台负电压加速打到基片表面。未电离的中性原子（约占蒸发料的95%）也沉积在基片或真空室壁表面。电场对离化的蒸气分子的加速作用（离子能量约几百～几千电子伏）和氩离子对基片的溅射清洗作用，使膜层附着强度提高。离子镀工艺综合了蒸发（高沉积速率）与溅射（良好的膜层附着力）工艺的特点，并有很好的绕射性，可为形状复杂的工件镀膜。

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与蒸发镀膜不同，溅射镀膜不受膜材熔点的限制,可溅射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等难熔物质。溅射化合物膜可用反应溅射法，将反应气体 (O、N、HS、CH等)加入Ar气中,反应气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反应生成化合物（如氧化物、氮化物等）而沉积在基片上。沉积绝缘膜可采用高频溅射法。基片装在接地的电极上，绝缘靶装在对面的电极上。高频电源一端接地，一端通过匹配网络和隔直流电容接到装有绝缘靶的电极上。接通高频电源后，高频电压不断改变极性。等离子体中的电子和正离子在电压的正半周和负半周分别打到绝缘靶上。由于电子迁移率高于正离子，绝缘靶表面带负电，在达到动态平衡时，靶处于负的偏置电位，从而使正离子对靶的溅射持续进行。采用磁控溅射可使沉积速率比非磁控溅射提高近一个数量级。江苏高质量真空镀膜机供应商

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