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真空镀膜设备在使用的过程中，它是会出现褐色条纹的情况，那么这种情况应该如何避免呢？下面真空镀膜设备厂家分析出现褐色条纹的原因。

①真空度低 解决方法：清洗真空室内的送铝、蒸镀设备、冷却体系、放卷、卷取设备及导辊;查看抽真空体系;下降环境湿度。

②薄膜释放气体。解决方法：薄膜预枯燥;延伸抽真空时刻。

③喷铝过多。解决方法：进步车速;下降蒸腾舟电流;下降送铝速度。

④蒸腾舟内有杂质。解决方法：清洗蒸腾舟及热屏蔽板。

⑤蒸腾舟老化。解决方法：替换蒸腾舟。 真空镀膜机采购，推荐无锡光润！河南推荐真空镀膜机厂家直销

      PVD镀膜加工工艺流程比较长、工序繁多，发生故障的影响因素会很多。如PVD镀膜前处理不净、清洗不良、电解液成分失调及杂质污染、生产环境不良等。PVD镀膜而故障的原因往往存在于以上各影响因素的一两个细节之中。

      PVD镀膜加工在影响产品质量的五大因素〔操作者、设备、材料、工艺方法及生产环境)中，人是重要的。PVD镀膜故障的发生都与操作工专业技能和工作责任心有关。PVD镀膜生产管理人员对操作工指导和监督不力，这些在PVD镀膜企业较普遍存在的状况,PVD镀膜使得故障在所难免。要减少PVD镀膜生产故障，提高PVD镀膜从业人员的专业技能和工作责任心是十分重要的。

      PVD镀膜加工生产故障是每个PVD镀膜企业都会遇到的问题，排除故障是PVD镀膜技术人员的重要职责。PVD镀膜实践出真知，PVD镀膜生产的实践性很强。要在调控PVD镀膜生产的全过程中做到遇障不惊，PVD镀膜的途径就是在生产实践中摸爬滚打、坚韧实干善于思考，不断探索和积累等。 山东真空镀膜机生产厂家江苏真空镀膜机报价找哪家？

我们在镀膜的时候，会出现黑镀镍层颜色不深，甚至有时候还出现白色条纹，这种情况我们只需要加一点增黑盐颜色马上就恢复了，但是当我们开始使用一段时间以后，大概电镀1h左右，又出现这种情况，经过检查真空镀膜设备以后发现是因为镀液中的杂质太多引起的，增黑剂只能暂时缓解这种情况，随着电镀的过程，增黑剂消耗，又出现这种情况了，这种情况一般是外部表现，在大多数情况下出现在一个工序中，而他的原因却是应该另外一个工序，这就是所谓的假性故障，！ 实想要真空镀膜设备的使用寿命长，那么我们在使用的时候就一定要正确的操作，正确的操作不仅可以使镀膜机的使用寿命延长，还可以保证镀膜的质量，节约返工时间！那么怎样才算正确的使用真空度磨设备呢？

真空镀膜的运作原理：相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。

真空镀膜方法

真空镀膜常用的方法有真空蒸发镀膜、磁控溅射镀膜和离子镀膜3种。图1为3种常见真空镀膜法的原理示意图。

真空蒸发镀膜在真空环境下加热镀膜材料，使它在极短时间内蒸发，蒸发了的镀膜材料分子沉积在塑料表面上形成镀膜层。此法简单便利、操作容易、成膜速度快、效率高，是薄膜真空制备中较为广使用的技术，但薄膜与基体结合较差，工艺重复性不好，只能蒸发铝这样的低熔点金属。

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磁控溅射镀膜是在真空中充入惰性气体，并在塑料基体和金属靶之间加上高压直流电，由辉光放电产生的电子激发惰性气体，产生等离子体，等离子体将金属靶材的原子击出，沉积在塑料基体上。由于溅射原子能量比蒸发原子能量高1～2个数量级，高能量的溅射原子沉积在基体时转换的能量多，甚至可发生部分注入现象，同时溅射成膜过程中，基体始终在等离子区中被清洗，因此溅射镀膜与塑料表面的附着力要比蒸发镀膜好，膜层致密、均匀，如配合适当的工件转动，可在复杂表面上获得较均匀的镀层离子镀膜是蒸发工艺与溅射技术的结合，它是在镀膜的同时采用荷能离子轰击工件表面和膜层，使得镀膜层和基体结合力好，不易脱落。由于金属原子的能量低于蒸镀时的能量，即使是耐热性较差的塑料，在其表面也可生成稳定性良好的金属薄膜。买真空镀膜机，欢迎联系无锡光润！上海供应真空镀膜机生产

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术语

   1.1真空镀膜vacuumcoating：在处于真空下的基片上制取膜层的一种方法。     

   1.2基片substrate：膜层承受体。

   1.3试验基片testingsubstrate：在镀膜开始、镀膜过程中或镀膜结束后用作测量和（或）试验的基片。

   1.4镀膜材料coatingmaterial：用来制取膜层的原材料。

   1.5蒸发材料evaporationmaterial：在真空蒸发中用来蒸发的镀膜材料。

   1.6溅射材料sputteringmaterial：有真空溅射中用来溅射的镀膜材料。

   1.7膜层材料(膜层材质)filmmaterial：组成膜层的材料。

   1.8蒸发速率evaporationrate：在给定时间间隔内,蒸发出来的材料量,除以该时间间隔

   1.9溅射速率sputteringrate：在给定时间间隔内,溅射出来的材料量,除以该时间间隔。

   1.10沉积速率depositionrate：在给定时间间隔内,沉积在基片上的材料量,除以该时间间隔和基片表面积。

   1.11镀膜角度coatingangle：入射到基片上的粒子方向与被镀表面法线之间的夹角。 河南推荐真空镀膜机厂家直销

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