无锡高效HJT金属化设备

HJT电池TCO薄膜的方法主要有两种：RPD（特指空心阴极离子镀)和PVD(特指磁控溅射镀膜)；l该工艺主要是在电池正背面上沉积一层透明导电膜层，通过该层薄膜实现导电、减反射、保护非晶硅薄膜的作用，同时可以有效地增加载流子的收集；l目前常用于HJT电池TCO薄膜为In2O3系列，如ITO（锡掺杂In2O3，@PVD溅射法）、IWO（钨掺杂In2O3，@RPD方法沉积）等。HJT电池具备光电转化效率提升潜力高、更大的降成本空间。零界高效异质结电池整线解决方案，实现设备国产化，高效高产PVD DD CVD。釜川高效HJT电池金属化设备采用无银或低银工艺。无锡高效HJT金属化设备

HJT光伏技术是一种新型的高效光伏技术，与传统的晶体硅太阳能电池相比，具有以下优势：1.高效率：HJT光伏技术的转换效率可以达到22%以上，比传统晶体硅太阳能电池高出5%以上，因此可以在同样的面积下获得更多的电能。2.低温系数：HJT光伏电池的温度系数比传统晶体硅太阳能电池低，因此在高温环境下仍能保持高效率。3.长寿命：HJT光伏电池的寿命比传统晶体硅太阳能电池长，因为它采用了高质量的材料和制造工艺。4.环保：HJT光伏电池的制造过程中不需要使用有害物质，因此对环境的影响更小。5.灵活性：HJT光伏电池可以制造成各种形状和尺寸，因此可以适应不同的应用场景。综上所述，HJT光伏技术具有高效率、低温系数、长寿命、环保和灵活性等优势，是未来光伏技术发展的重要方向之一。无锡高效HJT金属化设备HJT电池的广泛应用将有力推动绿色能源的发展，为实现碳中和目标做出积极贡献。

HJT电池整线解决方案，制绒清洗的主要目的有，1去除硅片表面的污染和损伤层；2利用KOH腐蚀液对n型硅片进行各项异性腐蚀，将Si（100）晶面腐蚀为Si（111）晶面的四方椎体结构（“金字塔结构”），即在硅片表面形成绒面，可将硅片表面反射率降低至12.5%以下，从而产生更多的光生载流子；3形成洁净硅片表面，由于HJT电池中硅片衬底表面直接为异质结界面的一部分，避免不洁净引进的缺陷和杂质而带来的结界面处载流子的复合。碱溶液浓度较低时，单晶硅的(100)与(111)晶面的腐蚀速度差别比较明显，速度的比值被称为各向异性因子(anisotropicfactorAF)；因此改变碱溶液的浓度及温度，可以有效地改变AF，使得在不同方向上的速度不同，在硅片表面形成密集分布的“金字塔”结构的减反射绒面；在制绒工序，绒面大小为主要指标，一般可通过添加剂的选择、工艺配比的变化、工艺温度及工艺时间等来进行调节控制。

HJT电池生产设备，本征非晶硅薄膜沉积（i-a-Si:H）i-a-Si:H/c-Si界面处存在复合活性高的异质界面，是由于界面处非晶硅薄膜中的缺陷和界面上的悬挂键会成为复合中心，因此需要进行化学钝化；化学钝化主要由氢钝化非晶硅薄膜钝化层来完成，将非晶硅薄膜中的缺陷和界面悬挂键饱和来减少复合性缺陷态密度。掺杂非晶硅薄膜沉积场钝化主要在电池背面沉积同型掺杂非晶硅薄层形成背电场，可以削弱界面的复合，达到减少载流子复合和获取更多光生载流子的目的；掺杂非晶硅薄膜一般采用与沉积本征非晶硅膜层相似的等离子体系统来完成；优越的表面钝化能力是获得较高电池效率的重要条件，利用非晶硅优异的钝化效果，可将硅片的少子寿命大幅度提升。HJT电池的应用范围广阔，包括户用、商用、工业等领域。

HJT电池为对称的双面结构，主要由 N 型单晶硅片衬底、正面和背面的本征/掺杂非晶硅薄膜层、双面的透明导电氧化薄膜(TCO) 层和金属电极构成。其中，本征非晶硅层起到表面钝化作用，P型掺杂非晶硅层为发射层，N 型掺杂非晶硅层起到背场作用。釜川以半导体生产设备、太阳能电池生产设备为主要产品，打造光伏设备一体化服务。 HJT装备与材料：包含制绒清洗设备、PECVD设备、PVD设备、金属化设备等。 电镀铜设备：采用金属铜完全代替银浆作为栅线电极，具备低成本、高效率等优势。HJT电池的制造过程中采用了环保材料，符合绿色发展的趋势。北京硅HJT

HJT电池是一种具有发展前景的光伏技术，未来有望在新能源领域发挥更加重要的作用。无锡高效HJT金属化设备

HJT电池工艺 1.清洗制绒。通过腐蚀去除表面损伤层，并且在表面进行制绒，以形成绒面结构达到陷光效果，减少反射损失；2.正面/背面非晶硅薄膜沉积。通过CVD方式在正面/背面分别沉积5~10nm的本征a-Si:H，作为钝化层，然后再沉积掺杂层；3.正面/背面TCO沉积。通过PVD在钝化层上面进行TCO薄膜沉积；4.栅线电极。通过丝网印刷进行栅线电极制作；5.烘烤(退火)。通过丝网印刷进行正面栅线电极制作，然后通过低温烧结形成良好的接触；6.光注入。7.电池测试及分选。无锡高效HJT金属化设备