江苏化妆品净化工程设备
有的工厂为了简便和省钱,在原空调器内增加湿膜或喷雾进行加湿以加大加湿量。但是,事与愿违,不但加不进去湿量而且加进去的还会很快饱和变为凝结水析出来,而达不到加湿目的。因为,湿膜和高压喷雾属等焓加湿过程,加湿前的空调空气必须加热到一定温度后再加湿才能达到加湿目的。如果不进行加热是不可行的。在加湿问题上还有一个应注意的问题就是空调器内空气流动带水的问题。有的工程中由于加湿的带水问题没有处理好,结果后面的中效过滤器甚至5f722852-96d8-430b-a29b-c34都被携带的水打湿了。对于干蒸汽加湿器也要注意蒸汽管和凝结水管的坡度和坡向问题,要使凝结水迅速地排到空调器外。若加湿器设在空调器的风机段内,还应采取措施避免凝结水滴到电机上,造成电机短路断电。光学微电子净化工程-洁净车间技术解决方案光学微电子净化工程之定义为将一定空间范围内之空气中的微尘粒子、有害空气、细菌等之污染物排除,并将室内之温湿度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音震动及照明、静电控制在某一需求范围内,而所给于特别设计之密闭空间。光学微电子净化工程亦名无尘室或清净室。高效颗粒空气过滤器(HEPA)在净化工程中扮演着重要角色,能有效捕获微小颗粒物。江苏化妆品净化工程设备
相对湿度超过55%时,冷却水管壁上会结露。如果发生在精密装置或电路中,就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以。相对湿度越高,粘附的越难去掉,但当相对湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产湿度范围为35—45%。气压规定对于大部分洁净空间,为了防止外界污染侵入,需要保持内部的压力(静压)高于外部的压力(静压)。压力差的维持一般应符合以下原则:1.洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力。2.洁净度级别高的空间的压力要高于相邻的洁净度级别低的空间的压力。压力差的维持依靠新风量,这个新风量要能补偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风量。所以压力差的物理意义就是漏泄(或渗透)风量通过洁净室的各种缝隙时的阻力。洁净室中的气流速度规定这里要讨论的气流速度是指洁净室内的气流速度,在其他洁净空间中的气流速度在讨论具体设备时再说明。对于乱流洁净室由于主主要靠空气的稀释作用来减轻室内污染的程度,所以主要用换气次数这一概念,而不直接用速度的概念,不过对室内气流速度也有如下要求;。食品净化工程方案洁净室内的照明设备应选用无汞、无紫外线的LED灯具,以减少对产品和环境的污染。
其防烟楼梯间、前室、共用前室、合用前室(除共用前室与消防电梯前室合用外)及消防电梯前室应采用自然通风系统;当不能设置自然通风系统时,应采用机械加压送风系统。防烟系统的选择,尚应符合下列规定:1当前室或合用前室满足下列条件之一时,楼梯间可不设置防烟系统:1)采用全敞开的阳台或凹廊;2)设有两个及以上不同朝向的可开启外窗,且前室两个外窗面积分别不小于2.0m2,合用前室两个外窗面积分别不小于3.0m2。2当前室、共用前室及合用前室的机械加压送风口设置在前室的顶部或正对前室入口的墙面时
AMC)作为IC工厂所关心的问题于20年前先由日本人提出,近年来,世界IC技术发展迅速,IC芯片日益微型化。AMC对当前的IC生产其潜在的污染比粒子污染要多,粒子污染控制只需要确定粒径及个数,但对AMC控制而言,除了受芯片线宽的缩小而变化外,并受工艺、工艺设备、工艺材料及传送系统等的影响。更有甚者用于某一工序的各种工艺材料(化学品、特种气体等)在很多情况下其微量的分子残余对下一工序往往可能就是污染物。因此,IC生产过程中的某些加工工序及工序间的材料传送和存放环境中,AMC已成为严重影响成品率的重要问题,AMC分子控制技术成为洁净工程设计与施工建设的主流趋势。目前,国内的洁净工程企业中已经开始从事此方向的研究,在该领域比较的企业有亚翔集成,在分子净化技术方面该公司已经走在了同行业的前列,而中国电子工程设计院则在防微震方面技术。洁净室的洁净度等级通常以单位体积内空气中的颗粒物数量来表示,如ISO 14644-1标准。
人员的活动也可以使单向流变成紊流。在这些紊流中。由于风速较低,空气稀释程度较小,从而使得污染浓度较高。因此,必须将风速保持在(60英尺/分钟至100英尺/分钟)的范围里,以便使中断的单向流能快速恢复,充分稀释障碍物周围紊流区的污染。用风速可以正确地表示出单向流,因为风速越高室内就越洁净。而每小时换气次数与房间的体积有关,如吊顶的高低,因此不适合用来表示单向流。单向流室内的送风量是紊流室的很多倍(10到100倍)。净化工程控制编辑洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片,温度上升1度,就引起了,所以必须有±,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间温度不宜超过25度,湿度过高产生的问题更多。洁净室的温度和湿度也需要严格控制,以确保生产环境的稳定性和舒适性。衢州净化工程洁净度
洁净室的墙面和地面材料应具有抗静电、易清洁和耐磨损等特性。江苏化妆品净化工程设备
并结合其具体的生产工艺、生产流程等要求确定其需要的洁净度、温湿度。再根据该工程的具体情况,同时还要考虑到生产厂家的经济承受能力,综合各种因素来确定采用何种净化方案,这样才可设计出一个能满足甲方生产使用要求、工程造价合理、经济节能实用的方案。1、组合式空气处理机组+冷水机组+448696a3-db7f-4aae-afab-c这是一个传统的净化空调系统的设计方案。组合式空气处理机组里含有各种功能段,如混合段、初效过滤段、表冷段、二次回风段(或中间段)、加热段、加湿段、中效过滤段、风机段等。其冷源由冷水机组提供。优点:A.空气处理效果好,因空气经过集中处理,在送风过程中被污染程度较低。送风的温度、湿度的控制比较精确;B.比较适用于有集中冷源的或是较大的厂房;C.空调冷热源可与厂房普通空调系统合用或冷热源;D.维修频率较低;E.车间的噪音低。缺点:A.需要有配套的冷冻机房或有放置热泵机组的室外空间。另需要有放置组合式空气处理机组的空调机房,如25000m3/h的组合式空气处理机组,常用外形尺寸为6450×1850×2250mm左右。对于旧厂房改造项目来说比较困难空出一个20-30┫的机房的;B.造价高。特点:A.建议新风经过集中处理后再与回风混合。江苏化妆品净化工程设备
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