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PVD技术常用的方法 PVD基本方法:真空蒸发、溅射 、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀),以下介绍几种常用的方法。 电子束蒸发 电子束蒸发是利用聚焦成束的电子束来加热蒸发源,使其蒸发并沉积在基片表面而形成薄膜。 溅射沉积 溅射是与气体辉光放电相联系的一种薄膜沉积技术。溅射的方法很多,有直流溅射、RF溅射和反应溅射等,而用得较多的是磁控溅射、中频溅射、直流溅射、RF溅射和离子束溅射。 RF(射频)溅射 RF溅射使用的频率约为13.56MHz,它不需要热阴极,能在较低的气压和较低的电压下进行溅射。RF溅射不仅可以沉积金属膜,而且可以沉积多种材料的绝缘介质膜,因而使用范围较广。 电弧离子镀 阴极弧技术是在真空条件下,通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态,从而完成薄膜材料的沉积,该技术材料的离化率更高,薄膜性能更加优异。 当溅射靶被化合物全部覆盖的时候,靶完全中毒,在靶面上沉积一层化合金属膜。钨钛靶材贴合
什么是3D玻璃? 现在数码产品使用的玻璃盖板分为:2D玻璃,2.5D玻璃,还有3D玻璃。2D玻璃就是普通的纯平面玻璃,没有任何弧形设计;2.5D玻璃则为中间是平面的,但边缘是弧形设计;而3D屏幕,无论是中间还是边缘都采用弧形设计。 3D曲面玻璃的特色符合 3C 产品设计需求。3C 产品设计如智能手机、智能手表、平板计算机、可穿戴式智能产品、仪表板等陆续出现 3D 产品,已经明确引导3D曲面玻璃发展方向。3D曲面玻璃轻薄、透明洁净、抗指纹、防眩光、坚硬、耐刮伤、耐候性佳等优点,可型塑做出3D多形状外观具有产品特殊设计新颖性与质感佳,又可增加弧形边缘触控功能带来出色的触控手感、无线充电机能,并能解决天线布置空间不足及增强收讯功能,使产品更美观出色,产品设计差异化使消费者更能青睐。武汉镧靶材调试在真空条件下气体之间不可能进行热传导,所以,化学反应必须在一个固体表面进行。
真空技术中的清洁处理 (一)概述 真空技术清洁处理一般指的是真空装置的结构材料、填装材料和真空零(部)件的清洁处理。去除或减少污染物将有利于获得良好真空,增加连接强度和气密性,提高产品的寿命 和可靠性。 (二)污染物的几种类型 ①油脂:加工、安装和操作时沾染的润滑剂、真空油脂等; ②水滴:操作时的手汗,吹玻璃时的唾液等; ③表面氧化物:易氧化材料长期基露或放置在潮湿大气中所形成的表面氧化物; ④酸、碱、盐类物质:清洗后的残余物质、手汗、自来水中的矿物质等; ⑤空气中的尘埃及其它有机物。 (三)污染的形成及其影响 真空装置由许多不同的零件组成,它们都是经过各种机械加工完成的,如车、铣、刨、磨、锉、焊接等。这样,零件表面不可避免地会沾上许多加工油脂、汗痕、抛光膏、焊剂、金属屑、油垢等污染物。这些污染物在真空中易挥发,影响真空设备的极限真空。此外,污染物在大气压下吸附了大量的气体,在真空环境中,这些气体也要被释放出来。构成了限制真空设备极限真空的因素。为此,零件组装前必须***掉污染物。
PECVD 制备氢化非晶硅薄膜 本实验采用单晶硅片为衬底,按石英玻璃基片的清洗步骤清洗后烘干,然后置于PECVD系统中。样品制备条件为衬底温度250℃,工作气压120 Pa, 射频功率100 W, 气体流量SiH4/H2=15/5 sccm, 沉积时间30min, 制备得到a- Si:H 薄膜样品。 (1) 非晶硅薄膜的表面粗糙度会随着溅射功率的增大而增大,膜的均匀性将会变差; (2) 非晶硅薄膜的表面粗糙度随着衬底加热温度的增大而减小,非晶硅薄膜均匀性变好; (3) 在0.5 Pa 至2.0 Pa范围内,随着氩气气压的增加非晶硅薄膜的表面粗糙度稍微变大; (4) 随着溅射时间的增加, 膜的厚度成非线性增加,沉积速率开始较快,之后逐渐减慢,膜的表面粗糙度逐渐变大; (5)随着溅射气压的增大,沉积速率有所降低。靶材的密度不仅影响溅射速率,还影响着薄膜的电学和光学性能。
可选方案中,所述防护层为弹性材料,所述防护层的质地软,能够在所述固定板及靶材间提供缓冲,避免所述固定板触撞靶材导致靶材受损。
附图说明
图1是本发明具体实施例的靶材抛光装置的立体结构示意图;
图2是本发明另一具体实施例的靶材抛光装置的结构示意图;
图3是一种靶材的正视图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂,下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。
参考图1,一种靶材抛光装置100,包括:固定板200,所述固定板200包括顶板210和位于所述顶板210一侧的侧板220;抛光片300,位于所述固定板200内侧面上,其中位于固定板200弯折处的抛光片300呈弧状。
所述固定板200能够起到支架的作用,以固定支撑所述抛光片300,便于操作人员使用所述靶材抛光装置100。
本实施例中,所述顶板210呈矩形状,所述侧板220也呈矩形状。
本实施例中,所述固定板200内侧面弯折处形成夹角。具体的,所述侧板220表面垂直于所述顶板210表面,即所述夹角为90°。在其他实施例中,所述夹角还可以大于90°且小于180°。 为了减少靶材固体中的气孔,提高溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。扬州氧化钇锆靶材厂家
为确保足够的导热性,可以在阴极冷却壁与靶材之间加垫一层石墨纸。钨钛靶材贴合
经过几十年的发展,我国已经成为世界上第二大仪器仪表制造国,仪器仪表产业形成了一定的规模,仪器仪表产品也比较丰富。一些中低档产品已具有规模优势和国际市场竞争力。中国已成为[ "磁控溅射靶材", "蒸发材料", "背板", "靶材绑定" ]等产品的生产和出口大国,其他仪器设备等产品的出口也开始取得突破。中国仪器仪表行业目前正处于高速发展阶段,需要与之相适应的金属靶材,合金靶材,陶瓷靶材,镀膜材料的研发销售(以上项目均不含危险品);镀膜技术的研究,开发;镀膜生产**设备,其他机械设备,电子产品,五金产品的销售;自营和代理各类商品以及技术的进出口业务,但国家限定企业经营或禁止进出口的商品和技术除外。产品营销模式相互配合。尽管在国家相关政策的引导和支持下,我国仪器仪表行业得到了快速发展。但是从销售整体上看,我国的仪器仪表行业还是落后于国际先进水平的。**技术缺乏、高精尖产品严重依赖进口、仪器仪表产品同质化严重、生产工艺落后、研发能力弱、精度不高等问题的凸显,为仪器仪表行业的发展带来了严峻的挑战。钨钛靶材贴合
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