镇江二元合金靶价钱

时间:2020年07月13日 来源:

常见的PVD装饰膜主要有几大色系: 1.IP玫瑰金(rose gold)是一种黄金和铜的合金,由于其具有非常时尚、靓丽的玫瑰红色彩,因而普遍用于首饰设计和加工。又称粉色金(pink gold)、红色金(red gold)。 2. IP金,用离子镀膜的方式,让靶材上的黄金沉积到要镀的工件之上,一般由仿金层和表面金层两层,表面金层的颜色与24K黄金一样,厚度可以根据客户的要求镀不同的厚度。 3. 仿金系列(包括仿金色和仿玫瑰金),不含黄金,一般成份是由TiN TiCN ZrN ZrCN等陶瓷化合物组成,但很难达到真金的亮度。 4. 银色系列,一般是铬的化合物,颜色深浅可调整,可分冷色系列和暖色系列,冷色系列带蓝调,金属光感好,暖色系列带黄调,接近不锈钢本色。 5. 黑色系列,一般是成份是金属的碳化物,颜色深浅可以调整,色调根据客户的要求也可以调整,不同的金属碳化物具有不同的特性和色调,可以根据客户的需要选择不同的膜系。 6. 蓝色系列,有天空蓝,冰蓝色,海洋蓝,深蓝等等,不同色系成份也有所不一样。 此外,提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。镇江二元合金靶价钱

NCVM不导电膜是什么,它有哪些特点? NCVM又称不连续镀膜技术或不导电电镀技术,是一种起缘普通真空电镀的高新技术。真空电镀,简称VM,是vacuum metallization的缩写。它是指金属材料在真空条件下,运用化学、物理等特定手段进行有机转换,使金属转换成粒子,沉积或吸附在塑胶材料的表面,形成膜,也就是我们所谓的镀膜。真空不导电电镀,又称NCVM,是英文Non conductive vacuum metallization的缩写。它的加工工艺高于普通真空电镀,其加工制程比普通制程要复杂得多。 NCVM特点是采用镀出金属及绝缘化合物等薄膜,利用各相不连续之特性,得到外观有金属质感且不影响到无线通讯传输之效果。首先要实现不导电,满足无线通讯产品的正常使用;其次要保证“金属质感”这一重要的外观要求;通过UV涂料与镀膜层结合,保证产品的物性和耐候性,满足客户需求。上海氧化硼掺磷酸锂靶功能五.磁控溅射一定要求靶材表面要抛光吗?

磁控溅射离子镀   (1)在基体和工件上是否施加(直流或脉冲)负偏压,利用负偏压对离子的吸引和加速作用,是离子镀与其它镀膜类型的一个主要区别。蒸发镀时基体和工件上加有负偏压就是蒸发离子镀 ;多弧镀时基体和工件上加有负偏压就是多弧离子镀;磁控溅射时基体和工件上加有负偏压就是磁控溅射离子镀,这是磁控溅射离子镀技术的一个重要特点。   (2)磁控溅射离子镀是把磁控溅射和离子镀结合起来的技术。在同一个真空腔体内既可实现氩离子对磁控靶材的稳定溅射,又实现了高能靶材离子在基片负偏压作用下到达基片进行轰击、溅射、注入及沉积作用过程。整个镀膜过程都存在离子对基片和工件表面的轰击,可有效基片和工件表面的气体和污物;使成膜过程中,膜层表面始终保持清洁状态。   (3) 磁控溅射离子镀可以在膜-基界面上形成明显的混合过渡层(伪扩散层),提高膜层附着强度;可以使膜层与工件形成金属间化合物和固熔体,实现材料表面合金化,甚至出现新的晶相结构。   (4)磁控溅射离子镀形成膜层的膜基结合力好、膜层的绕镀性好、膜层组织可控参数多、膜层粒子总体能量高,容易进行反应沉积,可以在较低温度下获得化合物膜层。

  磁控靶材面积与承载功率范围 1、靶材面积与承载功率范围   (1) 圆形平面磁控靶功率密度范围一般为1~25瓦/cm2。   (2)矩形平面磁控靶功率密度范围一般为1~36瓦/cm2。   (3)柱状磁控靶、锥形平面磁控靶功率密度范围一般为40~50瓦/cm2。 2、磁控靶实际承载功率   磁控靶的实际的承载功率除了与溅射工艺、薄膜的质量要求等因数有关外,主要与靶的冷却状况和散热条件密切相关。磁控靶按其冷却散热方式的不同,分为“靶材直接水冷却”和“靶材间接水冷却”两种。   考虑到溅射靶长期使用老化后,其散热条件变差;兼顾各种不同靶材材质的散热系数的不同,磁控靶的使用时的承载功率,直接水冷却靶实际的承载大功率可按略小于功率密度范围的上限选取;间接水冷却靶的实际承载大功率可按功率密度范围上限值的二分之一左右选取。   磁控靶材(主要是Cu,Ag,黄铜(Brass)和Al青铜(Al bronze) “自溅射”时,一般是选用经过专门设计“靶材直接水冷却”的磁控溅射靶。其使用时的承载功率,均需大于靶功率密度范围的上限值(即>100W/cm2以上)。为确保足够的导热性,可以在阴极冷却壁与靶材之间加垫一层石墨纸。

磁控溅射镀膜中出现膜层不良的表现有哪些,如何改善? 1.脱膜主要表现:点状/片状膜层脱落 原因分析:杂质附着,清洗残留,真空室脏,脏污、油斑、灰点、口水点, 膜层局部附着不良等。 改善:加强清洗,加强烘烤,环境管控(清洁干燥),对于多层膜系,底层须与基材匹配(吸附力、硬度、热膨胀)。 2.裂纹/暴膜主要表现: 网状裂痕/龟裂/起泡脱膜,出炉外观OK,放置一段时间后爆裂/起泡脱膜。 原因分析:镀膜过程基材加热不充分,成膜后及出炉后降温过快,膜层应力累积, 膜层与基材不匹配,多层膜之间参数不匹配。 改善: 基材充分预热加热;增加离子辅助,减小应力;镀膜缓慢降温;底层须与基材匹配;多层膜之间参数不突变。 3,色差主要表现:同炉产品颜色不一致 原因分析及改善:靶材分布;布气;磁场;遮挡。六.靶材安装及注意事项有哪些?上海铜铬镍靶费用

同时还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。镇江二元合金靶价钱

四.磁控溅射不起辉的常见原因有哪些,怎么应对?磁控溅射金属靶时,无法起辉的原因有很多,常见主要原因有:

1. 靶材安装准确否?

2. 靶材表面是否干净------------金属靶表面氧化或有不清洁物质,打磨清理干净后即可。

3. 起辉电源是否正常------------检查靶电源。

4. 靶与地线之间短路

----------关掉机器,把设备的溅射靶卸下来,靶附近的零件仔细清洗一下;

----------压靶盖旋的过紧,没有和靶材之间留下适当的距离,调整距离即可。

5. 永磁靶表面场强是否下降太多?

---------如果下降太多,需要更换磁钢。


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