无锡硼靶材图片

磁控溅射制备非晶硅薄膜 　　本实验采用石英玻璃为衬底，实验前先将玻璃衬底浸泡在**溶液中，放到JHN- 4F(200 W)超声波清洗机清洗30 min;然后用分析乙醇同样在超声波清洗机中清洗30 min; 放入装有去离子水的烧杯中在超声波清洗器中清洗约30 min 后晾干。然后以高纯硅为靶材在JGP500型超高真空磁控溅射设备上，分别采用直流和射频方式制备了两块样品。在溅射前，预溅射5 min以除去靶材表面氧化物。1# 样品采用直流磁控溅射方式， 溅射功率为100 W， 本底真空度6×10- 4 Pa ， 溅射时间20 min，溅射气压0.5 Pa，衬底温度为室温。2#样品采用射频磁控溅射方式，溅射功率150 W，本底真空度6×10- 4 Pa，溅射时间120 min，溅射气压2.0 Pa，衬底温度为室温。样品1# 和2# 均切为3 小块，其中各保留一小块不做退火处理，其他的小块样品处理情况为1#750℃、1#850℃，2#750℃、2#850℃在马弗炉中退火1h。将1# 和2#未处理样品用拉曼激光诱导方法，研究非晶硅薄膜的晶化过程。在受到离子轰击之后，释放的二次电子数量增加，提高空间的导通能力，降低等离子体阻抗，导致溅射电压降低。无锡硼靶材图片

利用所述靶材抛光装置100对所述靶材600进行抛光时，将所述靶材抛光装置100放置于所述靶材600上，使所述抛光片第二部分320表面与所述靶材600的侧棱601表面相贴合，并使所述抛光片***部分310表面与所述靶材溅射面610相贴合，且所述抛光片第三部分330表面与所述靶材600的侧壁表面630相贴合。操作人员利用所述把手推动所述靶材抛光装置100，所述靶材抛光装置100相对所述靶材600移动，移动方向平行与被抛光的所述侧棱601延伸方向。所述抛光片300表面的磨砂颗粒与靶材600表面相摩擦，以获得光亮、平整的靶材600表面。

此外，还可以通过所述靶材抛光装置100同时对所述靶材600相交接的两个侧壁表面630进行抛光。具体的，所述抛光片***部分310与所述靶材600的一个侧壁表面630相贴合，所述抛光片第三部分330表面与所述靶材600的另一个侧壁表面630相贴合，所述抛光片第二部分320表面与位于两个侧壁表面630间的侧棱601表面相贴合。操作人员相对所述靶材600移动所述靶材抛光装置100，移动方向平行与被抛光的所述侧棱601延伸方向，从而可同时对所述靶材600的两个侧壁表面630进行抛光，且还同时对位于两个侧壁表面630间的侧棱601表面进行抛光，有助于提高抛光作业效率。 无锡硼靶材图片靶材太薄、靶材太贵的情况等。 但下列情况绑定有弊端。

在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合，为了避免不必要的重复，本发明对各种可能的组合方式不再另行说明。

此外，本发明的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合，只要其不违背本发明的思想，其同样应当视为本发明所公开的内容。

本发明涉及靶材领域，具体涉及一种长寿命靶材组件。

目前，现有的半导体溅射用ilc1013系列靶材的溅射寿命已经到了一个极限，为提高靶材的使用寿命，节省多次更换靶材的重复性。现有的技术都是通过磁场强度，把靶材表面设计成曲面来延长寿命，包括靶材本体及基体，所述基体的至少一面设有所述靶材本体，所述靶材本体是由高纯度靶材合金粉末通过等离子弧喷涂机喷涂熔焊在所述基体上。所述基体与所述靶材本体的结合面为呈内凹的圆弧面。所述基体为矩形体或圆形。所述靶材的制造方法步骤如下：(1)准备合金粉体；(2)准备基体；(3)等离子转移弧喷涂成型；(4)、清理被喷涂层表面，按照步骤(3)的要求再次喷涂处理，直至获得要求厚度的靶材。本发明有益效果在于：一是生产的靶材无气孔残留；二是生产设备简单、投资小；三是靶材可以修复再利用。

其次就是靶材的杂质含量。在经过一系列的靶材工艺处理后靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。因为用处不一样，所以不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。比如现在的半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。

密度也是靶材的关键性能指标之一.在靶材的技术工艺中为了减少靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的性能，一般是要求靶材必须具有较高的密度。因为靶材主要特性密度对溅射速率有着很大的影响，并且影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。

对于所有的金属来说，纯度是靶材的主要性能指标之一，靶材的纯度对后期产品薄膜的性能影响很大。

本实施例中，所述靶材抛光装置100还包括：防护层400，所述防护层400位于所述固定板200与所述抛光片300之间。

所述防护层400为弹性材料，能够在所述固定板200及靶材间提供缓冲，避免所述固定板200触撞靶材导致靶材受损。

本实施例中，所述防护层400的厚度为30mm～35mm。若所述防护层400的厚度过小，所述防护层400起到的缓冲效果差，难以有效的保护靶材。若所述防护层400的厚度过大，使得所述防护层400的体积过大，进而造成所述靶材抛光装置100的体积过大，对操作者使用所述靶材抛光装置100带来不必要的困难。

本实施例中，所述防护层400的材料为***。在其他实施例中，所述防护层的材料还可以为橡胶或棉花。

本实施例中，所述防护层400与所述固定板200间通过粘结剂相粘接。所述防护层400与所述抛光片300间也通过粘结剂相粘接。在其他实施例中，所述抛光片朝向所述防护层的表面上具有勾刺结构(图中未示出)，所述防护层与所述抛光片间通过所述勾刺结构相固定。 密度也是靶材的关键性能指标之一。苏州LiSiPO4靶材型号

为确保足够的导热性，可以在阴极冷却壁与靶材之间加垫一层石墨纸。无锡硼靶材图片

可选方案中，所述防护层为弹性材料，所述防护层的质地软，能够在所述固定板及靶材间提供缓冲，避免所述固定板触撞靶材导致靶材受损。

附图说明

图1是本发明具体实施例的靶材抛光装置的立体结构示意图；

图2是本发明另一具体实施例的靶材抛光装置的结构示意图；

图3是一种靶材的正视图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。

参考图1，一种靶材抛光装置100，包括：固定板200，所述固定板200包括顶板210和位于所述顶板210一侧的侧板220；抛光片300，位于所述固定板200内侧面上，其中位于固定板200弯折处的抛光片300呈弧状。

所述固定板200能够起到支架的作用，以固定支撑所述抛光片300，便于操作人员使用所述靶材抛光装置100。

本实施例中，所述顶板210呈矩形状，所述侧板220也呈矩形状。

本实施例中，所述固定板200内侧面弯折处形成夹角。具体的，所述侧板220表面垂直于所述顶板210表面，即所述夹角为90°。在其他实施例中，所述夹角还可以大于90°且小于180°。 无锡硼靶材图片

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