无锡ZnMgCa靶材定制

时间:2020年07月16日 来源:

与实施例1的区别*在于所述靶材表面的比较高点和比较低点的垂直距离为8mm;所得靶材组件溅射强度差,使得溅射过程中薄膜厚度不均匀,使用寿命减少。

对比例3

与实施例1的区别*在于所述靶材表面的硬度为10hv;所得靶材组件溅射强度差,使得溅射过程中薄膜厚度不均匀,使用寿命减少。

对比例4

与实施例1的区别*在于所述靶材表面的硬度为35hv;所得靶材组件溅射强度差,使得溅射过程中薄膜厚度不均匀,使用寿命减少。

通过上述实施例和对比例的结果可知,本发明中,通过调整靶材表面的高度差及硬度,保证溅射强度,使得溅射过程中薄膜厚度均匀,使用寿命增加。

申请人声明,本发明通过上述实施例来说明本发明的详细结构特征,但本发明并不局限于上述详细结构特征,即不意味着本发明必须依赖上述详细结构特征才能实施。所属技术领域的技术人员应该明了,对本发明的任何改进,对本发明所选用部件的等效替换以及辅助部件的增加、具体方式的选择等,均落在本发明的保护范围和公开范围之内。 反应溅射生成物在靶表面、基片表面、和其他结构表面进行。无锡ZnMgCa靶材定制

等离子预处理工艺在真空镀铝膜中的应用。 等离子体是电离了的气体。它由电子、离子和中性粒子3种成分组成,其中电子和离子的电荷总数基本相等,故整体是电中性的。在基材薄膜镀铝前,通过等离子处理装置将电离的等离子体中的电子或离子打到基材薄膜表面,一方面,可以打开材料的长分子链,出现高能基团;另一方面,经打击使薄膜表面出现细小的凹陷,同时还可使表面杂质离解、重解。电离时放出的臭氧有强氧化性,附着的杂质被氧化而除去,使镀铝基材薄膜的表面自由能提高,达到提高镀铝层附着牢度的目的。 等离子预处理技术在不同公司其称呼不同,如英国Bobst公司、德国Leybold Optic莱宝光电等称之为等离子预处理,美国Applied Material公司称之为辉光放电,英国Rexam公司为其注册商标为Camplus技术。另外,不同公司其使用的工艺气体的组分也有所不同,多数公司使用氧气和氩气的组合,也有少数公司使用氮气或氧气与氮气的组合。实践证明经过等离子处理后的薄膜其镀铝层附着牢度可以提高30-50%,且表现为非极性材料提高幅度高于极性材料。无锡WO3靶材定制而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。


下面对本发明进一步详细说明。但下述的实例**是本发明的简易例子,并不**或限制本发明的权利保护范围,本发明的保护范围以权利要求书为准。

具体实施方式

为更好地说明本发明,便于理解本发明的技术方案,本发明的典型但非限制性的实施例如下:

实施例1

本实施例提供一种长寿命靶材组件,所述靶材表面的比较高点和比较低点的垂直距离为5.75mm;所述靶材表面的硬度为23hv;

其中,所述靶材的比较大厚度为25mm;所述靶材组件还包括用于固定靶材的背板;所述靶材呈凹形结构;所述靶材包括用于溅射的溅射面;所述溅射面包括***平面、第二平面和斜面;所述斜面与水平面的夹角为5°;所述斜面位于所述***平面和第二平面之间;所述***平面为圆形;所述第二平面为环形;所述靶材的材质包括铝;所述背板的材质包括铝。

所得靶材组件溅射强度好,使得溅射过程中薄膜厚度均匀,使用寿命增加。

实施例2

本实施例提供一种长寿命靶材组件,所述靶材表面的比较高点和比较低点的垂直距离为6mm;所述靶材表面的硬度为30hv;



什么是真空镀铝膜,应用在哪些领域? 真空镀铝薄膜是在薄膜基材的表面附着而形成复合薄膜的一种工艺,我国镀铝膜产能已达到40万吨。主要用于风味食品、日用品、农产品、药品、化妆品的包装。 真空镀铝薄膜是在高真空条件下,以电阻、高频或电子束等加热方式使铝熔化蒸发,在薄膜基材的表面附着而形成复合薄膜的一种工艺。在塑料薄膜或纸张表面镀上一层极薄的金属铝即成为镀铝薄膜或镀铝纸。 用于包装上的真空镀铝薄膜具有铝材用量少、耐折叠性高、阻隔性能高、抗静电等特点,使镀铝薄膜成为一种性能优良、经济美观的新型复合薄膜,在许多方面已取代了铝箔复合材料。主要用于风味食品、日用品、农产品、药品、化妆品等的包装。如果下降太多,需要更换磁钢。

5、靶中毒的解决办法

(1)采用中频电源或射频电源。

(2)采用闭环控制反应气体的通入量。

(3)采用孪生靶

(4)控制镀膜模式的变换:在镀膜前,采集靶中毒的迟滞效应曲线,使进气流量控制在产生靶中毒的前沿,确保工艺过程始终处于沉积速率陡降前的模式。

磁控溅射不起辉的常见原因有哪些,怎么应对?磁控溅射金属靶时,无法起辉的原因有很多,常见主要原因有:

1. 靶材安装准确否?

2. 靶材表面是否干净------------金属靶表面氧化或有不清洁物质,打磨清理干净后即可。

3. 起辉电源是否正常------------检查靶电源。

4. 靶与地线之间短路

----------关掉机器,把设备的溅射靶卸下来,靶附近的零件仔细清洗一下;

----------压靶盖旋的过紧,没有和靶材之间留下适当的距离,调整距离即可。

5. 永磁靶表面场强是否下降太多?

---------如果下降太多,需要更换磁钢。

6. 起辉溅射真空度与前次的差别?

---------更换不同的靶材,起辉压强不尽相同。

换靶材后需要重新调功率匹配器的,只有功率匹配调好了才能正常起辉。

正离子堆积:靶中毒时,靶面形成一层绝缘膜。AlSi靶材型号

ITO、SiO2、陶瓷脆性靶材及烧结靶材。无锡ZnMgCa靶材定制

作为本发明推荐的技术方案,所述靶材组件还包括用于固定靶材的背板。

作为本发明推荐的技术方案,所述靶材呈凹形结构。

作为本发明推荐的技术方案,所述靶材包括用于溅射的溅射面。

推荐地,所述溅射面包括***平面、第二平面和斜面。

作为本发明推荐的技术方案,所述斜面与水平面的夹角≤10°,例如可以是10°、9°、8°、7°、6°、5°、4°、3°、2°或1°等,但不限于所列举的数值,该范围内其他未列举的数值同样适用。

作为本发明推荐的技术方案,所述斜面位于所述***平面和第二平面之间。

推荐地,所述***平面为圆形。

推荐地,所述第二平面为环形。

作为本发明推荐的技术方案,所述靶材的材质包括铝、钽、钛或铜中的一种。

作为本发明推荐的技术方案,所述背板的材质包括铜和/或铝。

作为本发明推荐的技术方案,所述靶材表面的比较高点和比较低点的垂直距离为5.75-6mm;所述靶材表面的硬度为20-30hv;


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江阴典誉新材料科技有限公司地处江苏省江阴市,是一家专业生产溅射靶材和蒸发材料的公司,溅射靶材充分借鉴国外的先进技术,并通过与国内外**研发机构合作,整合各行业资源优势,生产出多系列***溅射靶材产品。 公司目前主要生产金属,合金,陶瓷三大类靶材产品。经过几年的发展和技术积累,已经拥有:真空热压,冷压烧结,真空熔炼,热等静压,等离子喷涂等技术。另外也可根据客户要求研发新型靶材并提供靶材金属化、绑定和背板服务。 江阴典誉新材料科技有限公司已为以下行业提供***的靶材:平面显示、装饰与工具、太阳能光伏和光热、电子和半导体、建筑与汽车玻璃大面积镀膜等工业领域。同时也为国内外各大院校和研究所提供了很多常规和新型的试验用靶材。 江阴典誉目前拥有真空热压炉两台,冷压烧结炉一台,真空熔炼设备两台,等静压设备一台,等离子喷涂两套,绑定平台两套,各类机加工设备七台,检验设备若干,确保出厂的每件产品都能达到甚至超过客户的预期。 江阴典誉秉承:“一切以客户的需求为导向,客户的所有需求一次做好。”的发展理念。

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