南通硫化锌靶选型

时间:2020年07月27日 来源:

  磁控靶材面积与承载功率范围 1、靶材面积与承载功率范围   (1) 圆形平面磁控靶功率密度范围一般为1~25瓦/cm2。   (2)矩形平面磁控靶功率密度范围一般为1~36瓦/cm2。   (3)柱状磁控靶、锥形平面磁控靶功率密度范围一般为40~50瓦/cm2。 2、磁控靶实际承载功率   磁控靶的实际的承载功率除了与溅射工艺、薄膜的质量要求等因数有关外,主要与靶的冷却状况和散热条件密切相关。磁控靶按其冷却散热方式的不同,分为“靶材直接水冷却”和“靶材间接水冷却”两种。   考虑到溅射靶长期使用老化后,其散热条件变差;兼顾各种不同靶材材质的散热系数的不同,磁控靶的使用时的承载功率,直接水冷却靶实际的承载大功率可按略小于功率密度范围的上限选取;间接水冷却靶的实际承载大功率可按功率密度范围上限值的二分之一左右选取。   磁控靶材(主要是Cu,Ag,黄铜(Brass)和Al青铜(Al bronze) “自溅射”时,一般是选用经过专门设计“靶材直接水冷却”的磁控溅射靶。其使用时的承载功率,均需大于靶功率密度范围的上限值(即>100W/cm2以上)。靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。南通硫化锌靶选型

四.磁控溅射不起辉的常见原因有哪些,怎么应对?磁控溅射金属靶时,无法起辉的原因有很多,常见主要原因有:

1. 靶材安装准确否?

2. 靶材表面是否干净------------金属靶表面氧化或有不清洁物质,打磨清理干净后即可。

3. 起辉电源是否正常------------检查靶电源。

4. 靶与地线之间短路

----------关掉机器,把设备的溅射靶卸下来,靶附近的零件仔细清洗一下;

----------压靶盖旋的过紧,没有和靶材之间留下适当的距离,调整距离即可。

5. 永磁靶表面场强是否下降太多?

---------如果下降太多,需要更换磁钢。


无锡钒镍靶调试例如,半导体工业用的纯铝及铝合金靶材,对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。

玫瑰金靶材有哪些? PVD玫瑰金是靠溅射玫瑰金靶形成的,不同的玫瑰金靶配方颜色上有一些区别,大概分为以下几种: 1、皇冠金(crown gold),黄金含量在22K(91.667%),由英国亨利八世(1526年)将此比例的黄金用于金币的铸造 2、常见的也是典型的18K玫瑰金,黄金含量也在18K(75%),但其它另含有约4%的银和21%的铜,呈现美丽的淡粉玫瑰色 3、14K红金,黄金含量在14K(58.33%),其它添加金属为铜(41.67%)。 有的PVD镀膜厂玫瑰金靶也有添加一些其它的稀有元素,用来达到不同的色调或用来改变镀层的性能,这也是市面上每一家PVD厂镀出的色调都有一些差异的原因之一。

真空熔炼 Mn-F2701 电解锰 片状  99.7% 1-10mm 真空熔炼 Co-F3501 电解钴 片状 99.95% 1-10mm 真空熔炼 Co-I3504 电积钴 块状 99.95% 40*40*5mm 真空熔炼 Co-G3533 钴 颗粒 99.95% φ3*3mm 真空熔炼 W-G3536 m 真空熔炼 Ta-G3533 钽 颗粒 99.95% φ3*3mm 真空熔炼 Nb-G3533 铌 颗粒 99.95% φ3*3mm 真空熔炼 Mo-G3533 m 真空熔炼 Si-I5011 多晶硅 块状 99.999% 不规则块状 真空熔炼 In-G4501 铟 颗粒 99.995% 1-3mm 真空熔炼 Zr-I2402 海绵锆 块状 99.4% 3-25mm 真空熔炼 Hf-I2402 海 m 真空熔炼 Ge-G5006 锗 颗粒 99.999% 3-5mm 真空熔炼 La-I3011 镧 块状 99.9% 不规则块状 真空熔炼 Er-I3011 铒 块状 99.9% 不规则块状 真空熔炼 Dy-I3011 镝 块状 99.9% 不规则块状 真空熔炼 W-P3504 钨 粉末 99.95% 325目 粉末冶金 Al-P3504 &nbs 5目 粉末冶金 TiC-P2514 碳化钛 粉末 99.5% 3-5μm 粉末冶金 HfC-P2514 碳化铪 粉末 99.5% 3-5μm 粉末冶金 ZrB2-P2519 二硼化锆 粉末 99.5% 10μm 粉末冶金 Ti-F2612 .2*L 耗材配件 Ta-F3513 钽 0*0.2mm 耗材配件 Nb-F3513 *100*0.2mm 耗材配件 合金定制 流程:1.客户提供需要的配比、块材大小和用量要求;磁控溅射金属靶时,无法起辉的原因有很多,常见主要原因。

真空镀膜设备替代电镀设备是发展的必然     2012年全国化学电镀产生的污水和重金属排放量达到3.5亿吨,固体废物达到4.1万吨,酸性气体达到2.3万立方米,由于真空镀膜设备逐渐应用到市场上,污染排放量比2011年有所下降,但仍是一个不可忽视的数据,为处理这大量的污染,大部分企业已投放了共5868.1亿元在污水治理方面,464.8亿元在固体废物治理方面,974.9亿元在酸性气体治理方面,但仍然有部分企业没有完善治理措施,造成大量污染。         使用真空镀膜设备进行电镀可以有效改善污染情况,它不像化学电镀需要使用重金属溶液和酸性溶液进行镀膜,而是在真空环境下利用蒸发或溅射方式进行镀膜,完全没有污染产生,是一种绿色低碳、符合可持续发展战略的产业,已经越来越多企业淘汰了旧方式化学电镀而转用真空电镀,但还有很多企业没意识到环保的重要性,不懂得绿色生产其实是为自己和后代创建美好生存环境的道理。         绿色环保产业是必然的发展趋势,造成严重污染的化学电镀终会退出历史舞台,取而代之的是真空电镀,利用真空镀膜机镀膜成为主流是不可质疑的。一般情况下磁控溅射的溅射电压在400V-600V之间,当发生靶中毒时,溅射电压会***降低。碳化钨靶厂家

靶中毒的解决办法:(1)采用中频电源或射频电源。南通硫化锌靶选型

高纯金属的纯度分析原则: 高纯金属材料的纯度一般用减量法衡量。减量计算的杂质元素主要是金属杂质,不包括C ,O ,N ,H等间隙元素,但是间隙元素的含量也是重要的衡量指标,一般单独提出。依应用背景的不同,要求进行分析的杂质元素种类少则十几种, 多则70多种。简单的说高纯金属是几个N(九) 并不能真正的表达其纯度, 只有提供杂质元素和间隙元素的种类及其含量才能明确表达高纯金属的纯度水平。 高纯金属的纯度检测应以实际应用需要作为主要标准,例如目前工业电解钴的纯度一般接99.99 % ,而且检测的杂质元素种类较少。我国电解钴的有色金属行业标准(YS/ T25522000)*要求分析C ,S ,Mn , Fe, Ni , Cu , As , Pb , Zn , Si , Cd , Mg , P , Al , Sn ,Sb , Bi等17 个杂质元素, Co9998电解钴的杂质总量不超过0.02,但这仍然不能满足功能薄膜材料材料的要求[2]。南通硫化锌靶选型

江阴典誉新材料科技有限公司地处江苏省江阴市,是一家专业生产溅射靶材和蒸发材料的公司,溅射靶材充分借鉴国外的先进技术,并通过与国内外**研发机构合作,整合各行业资源优势,生产出多系列***溅射靶材产品。 公司目前主要生产金属,合金,陶瓷三大类靶材产品。经过几年的发展和技术积累,已经拥有:真空热压,冷压烧结,真空熔炼,热等静压,等离子喷涂等技术。另外也可根据客户要求研发新型靶材并提供靶材金属化、绑定和背板服务。 江阴典誉新材料科技有限公司已为以下行业提供***的靶材:平面显示、装饰与工具、太阳能光伏和光热、电子和半导体、建筑与汽车玻璃大面积镀膜等工业领域。同时也为国内外各大院校和研究所提供了很多常规和新型的试验用靶材。 江阴典誉目前拥有真空热压炉两台,冷压烧结炉一台,真空熔炼设备两台,等静压设备一台,等离子喷涂两套,绑定平台两套,各类机加工设备七台,检验设备若干,确保出厂的每件产品都能达到甚至超过客户的预期。 江阴典誉秉承:“一切以客户的需求为导向,客户的所有需求一次做好。”的发展理念。

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