硼靶材调试

时间:2020年07月30日 来源:

本实施例中,所述固定板200的厚度为10mm~15mm。若所述固定板200的厚度过大,使得所述固定板200的重量过大,不便于使用,影响操作的灵活性。若所述固定板200的厚度过小,导致所述固定板200的强度和韧性较差,影响所述靶材抛光装置100的使用寿命。

所述抛光片300表面与靶材侧壁表面及经圆角处理的侧棱相匹配。所述抛光片300表面具有磨砂颗粒,用于增加所述抛光片300与靶材表面间的摩擦力,以提高抛光效率。

本实施例中,所述抛光片300为砂纸。

本实施例中,所述抛光片300包括抛光片***部分310、抛光片第二部分320及抛光片第三部分330。所述抛光片***部分310设置于所述顶板210的底部。所述抛光片第二部分320设置于所述顶板210与所述侧板220的拐角处,且在所述抛光片***部分310及抛光片第三部分330间平滑的过渡。所述抛光片第三部分330设置于所述侧板220的内侧面上,所述抛光片第三部分330表面与抛光片***部分310表面垂直。 溅射过程不影响靶材合金、混合材质的比例和性质。硼靶材调试

中频双靶反应磁控溅射与直流反应磁控溅射相比具有以下几个显巨优点:   (1)消除了靶面打弧放电现象,中频反应磁控溅射镀制的绝缘薄膜与直流反应磁控溅射镀制的同种膜相比,膜面缺 陷要少几个数量级;   (2)可以得到比直流反应磁控溅射高出数倍的溅射沉积速率;   (3)中频双靶反应磁控溅射的整个溅射沉积过程,可以始终稳定在所设定的工作点上,为大规模工业化稳定生产提供了条件。   选用非对称双极脉冲靶电源与选用“双靶-中频靶电源”不同,*使用单个磁控靶进行反应磁控溅射,调节相应的镀膜工艺参数,可以消除磁控靶面打弧放电现象和实现长时间稳定的薄膜沉积,可以达到上述“中频-双靶反应磁控溅射”的同样效果。 南京B靶材调试靶材太薄、靶材太贵的情况等。 但下列情况绑定有弊端。

背景技术:

溅射镀膜属于物***相沉积方法制备薄膜的工艺之一,具体是指利用高能粒子轰击靶材表面,使得靶材原子或分子获得足够的能量逸出,并沉积在基材或工件表面,从而形成薄膜。

由于背板具有良好的导电导热性能,且还可以起到固定支撑作用,因此,靶材在镀膜前需与背板焊接在一起,然后共同装配至溅射基台。

一般活性金属靶材,例如铝靶材,由于长期暴露在空气中,靶材表面材料容易氧化形成一层氧化皮。在直流脉冲、中频溅射过程中,离子撞击的能量不足以破坏该氧化皮,导致靶材原子或分子难以逸出,因此在将靶材安装至溅射基台之前,需要对靶材表面进行抛光。此外,对于活性金属靶材及非活性金属靶材,抛光操作有利于改善靶材的溅射速率的稳定性,有助于提高溅射镀膜质量。

什么是真空镀铝膜,应用在哪些领域? 真空镀铝薄膜是在薄膜基材的表面附着而形成复合薄膜的一种工艺,我国镀铝膜产能已达到40万吨。主要用于风味食品、日用品、农产品、药品、化妆品的包装。 真空镀铝薄膜是在高真空条件下,以电阻、高频或电子束等加热方式使铝熔化蒸发,在薄膜基材的表面附着而形成复合薄膜的一种工艺。在塑料薄膜或纸张表面镀上一层极薄的金属铝即成为镀铝薄膜或镀铝纸。 用于包装上的真空镀铝薄膜具有铝材用量少、耐折叠性高、阻隔性能高、抗静电等特点,使镀铝薄膜成为一种性能优良、经济美观的新型复合薄膜,在许多方面已取代了铝箔复合材料。主要用于风味食品、日用品、农产品、药品、化妆品等的包装。金属靶表面氧化或有不清洁物质,打磨清理干净后即可。

直流磁控溅射制备锌-锑热电薄膜的技术探讨 热电材料是一种能够实现热能和电能直接相互转换的绿色环保型功能材料。近年来研究发现,热电薄膜化有助于热电材料减低热导率,从而能够有效的提高材料的热电转换效率,因此具有十分重要的科学研究价值。Zn-Sb合金是采用的P 型热电半导体材料之一,但由于其较低的热电优值,所以没有得到普遍的应用。   但近几年研究发现,在263 K~767K 温度区间稳定存在的β-Zn4Sb3 具有非常优异的热电性能,材料少含稀土材料以及可适用于中温,被国内外认为是具有前景的中温热电材料之一。因此,本文选取纯度为99.99%的Zn 和Sb 金属靶作为靶材,采用直流磁控共溅射技术,制备Zn-Sb 合金热电薄膜,研究不同热处理条件下合成的Zn-Sb 化合物热电薄膜的结构与热电特性变化规律。   结果表明,选取适当的溅射Zn和Sb的功率条件,溅射完成合金薄膜后在Ar 气氛下进行623 K 退火热处理,可形成具有单一β-Zn4Sb3相结构的Zn-Sb 热电薄膜,且薄膜颗粒大,较致密,所制备的热电薄膜具有优良的热电性能。如果反应气体量增加过度,化合物覆盖面积增加。南京B靶材调试

当溅射靶被化合物全部覆盖的时候,靶完全中毒,在靶面上沉积一层化合金属膜。硼靶材调试

其中,所述靶材的比较大厚度为25mm;所述靶材组件还包括用于固定靶材的背板;所述靶材呈凹形结构;所述靶材包括用于溅射的溅射面;所述溅射面包括***平面、第二平面和斜面;所述斜面与水平面的夹角为5°;所述斜面位于所述***平面和第二平面之间;所述***平面为圆形;所述第二平面为环形;所述靶材的材质包括铝;所述背板的材质包括铝。

所得靶材组件溅射强度好,使得溅射过程中薄膜厚度均匀,使用寿命增加。

实施例2

本实施例提供一种长寿命靶材组件,所述靶材表面的比较高点和比较低点的垂直距离为6mm;所述靶材表面的硬度为30hv;

其中,所述靶材的比较大厚度为30mm;所述靶材组件还包括用于固定靶材的背板;所述靶材呈凹形结构;所述靶材包括用于溅射的溅射面;所述溅射面包括***平面、第二平面和斜面;所述斜面与水平面的夹角为8°;所述斜面位于所述***平面和第二平面之间;所述***平面为圆形;所述第二平面为环形;所述靶材的材质包括钛;所述背板的材质包括铜。 硼靶材调试

江阴典誉新材料科技有限公司地处江苏省江阴市,是一家专业生产溅射靶材和蒸发材料的公司,溅射靶材充分借鉴国外的先进技术,并通过与国内外**研发机构合作,整合各行业资源优势,生产出多系列***溅射靶材产品。 公司目前主要生产金属,合金,陶瓷三大类靶材产品。经过几年的发展和技术积累,已经拥有:真空热压,冷压烧结,真空熔炼,热等静压,等离子喷涂等技术。另外也可根据客户要求研发新型靶材并提供靶材金属化、绑定和背板服务。 江阴典誉新材料科技有限公司已为以下行业提供***的靶材:平面显示、装饰与工具、太阳能光伏和光热、电子和半导体、建筑与汽车玻璃大面积镀膜等工业领域。同时也为国内外各大院校和研究所提供了很多常规和新型的试验用靶材。 江阴典誉目前拥有真空热压炉两台,冷压烧结炉一台,真空熔炼设备两台,等静压设备一台,等离子喷涂两套,绑定平台两套,各类机加工设备七台,检验设备若干,确保出厂的每件产品都能达到甚至超过客户的预期。 江阴典誉秉承:“一切以客户的需求为导向,客户的所有需求一次做好。”的发展理念。

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