镇江ZrC靶材工厂

作为本发明推荐的技术方案，所述靶材的比较大厚度为28-30mm，例如可以是28mm、28.1mm、28.2mm、28.3mm、28.4mm、28.5mm、28.6mm、28.7mm、28.8mm、28.9mm、29mm、29.1mm、29.2mm、29.3mm、29.4mm、29.5mm、29.6mm、29.7mm、29.8mm、29.9mm或30mm等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。

作为本发明推荐的技术方案，所述靶材组件还包括用于固定靶材的背板。

作为本发明推荐的技术方案，所述靶材呈凹形结构。

作为本发明推荐的技术方案，所述靶材包括用于溅射的溅射面。

推荐地，所述溅射面包括***平面、第二平面和斜面。

作为本发明推荐的技术方案，所述斜面与水平面的夹角≤10°，例如可以是10°、9°、8°、7°、6°、5°、4°、3°、2°或1°等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。

作为本发明推荐的技术方案，所述斜面位于所述***平面和第二平面之间。

推荐地，所述***平面为圆形。

推荐地，所述第二平面为环形。 由金属靶面通过反应溅射工艺形成化合物的过程中，化合物是在哪里形成的呢？镇江ZrC靶材工厂

虽然本发明披露如上，但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。

本发明涉及靶材领域，具体涉及一种长寿命靶材组件。

背景技术：

目前，现有的半导体溅射用ilc1013系列靶材的溅射寿命已经到了一个极限，为提高靶材的使用寿命，节省多次更换靶材的重复性。现有的技术都是通过磁场强度，把靶材表面设计成曲面来延长寿命，公开了一种靶材，包括靶材本体及基体，所述基体的至少一面设有所述靶材本体，所述靶材本体是由高纯度靶材合金粉末通过等离子弧喷涂机喷涂熔焊在所述基体上。所述基体与所述靶材本体的结合面为呈内凹的圆弧面。所述基体为矩形体或圆形。所述靶材的制造方法步骤如下：(1)准备合金粉体；(2)准备基体；(3)等离子转移弧喷涂成型；(4)、清理被喷涂层表面，按照步骤(3)的要求再次喷涂处理，直至获得要求厚度的靶材。本发明有益效果在于：一是生产的靶材无气孔残留；二是生产设备简单、投资小；三是靶材可以修复再利用。 上海氧化锌靶材图片溅射靶材的分类有哪些？

磁控溅射制备非晶硅薄膜 　　本实验采用石英玻璃为衬底，实验前先将玻璃衬底浸泡在**溶液中，放到JHN- 4F(200 W)超声波清洗机清洗30 min;然后用分析乙醇同样在超声波清洗机中清洗30 min; 放入装有去离子水的烧杯中在超声波清洗器中清洗约30 min 后晾干。然后以高纯硅为靶材在JGP500型超高真空磁控溅射设备上，分别采用直流和射频方式制备了两块样品。在溅射前，预溅射5 min以除去靶材表面氧化物。1# 样品采用直流磁控溅射方式， 溅射功率为100 W， 本底真空度6×10- 4 Pa ， 溅射时间20 min，溅射气压0.5 Pa，衬底温度为室温。2#样品采用射频磁控溅射方式，溅射功率150 W，本底真空度6×10- 4 Pa，溅射时间120 min，溅射气压2.0 Pa，衬底温度为室温。样品1# 和2# 均切为3 小块，其中各保留一小块不做退火处理，其他的小块样品处理情况为1#750℃、1#850℃，2#750℃、2#850℃在马弗炉中退火1h。将1# 和2#未处理样品用拉曼激光诱导方法，研究非晶硅薄膜的晶化过程。

下面对本发明进一步详细说明。但下述的实例**是本发明的简易例子，并不**或限制本发明的权利保护范围，本发明的保护范围以权利要求书为准。

具体实施方式

为更好地说明本发明，便于理解本发明的技术方案，本发明的典型但非限制性的实施例如下：

实施例1

本实施例提供一种长寿命靶材组件，所述靶材表面的比较高点和比较低点的垂直距离为5.75mm；所述靶材表面的硬度为23hv；

其中，所述靶材的比较大厚度为25mm；所述靶材组件还包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形结构；所述靶材包括用于溅射的溅射面；所述溅射面包括***平面、第二平面和斜面；所述斜面与水平面的夹角为5°；所述斜面位于所述***平面和第二平面之间；所述***平面为圆形；所述第二平面为环形；所述靶材的材质包括铝；所述背板的材质包括铝。

所得靶材组件溅射强度好，使得溅射过程中薄膜厚度均匀，使用寿命增加。

实施例2

本实施例提供一种长寿命靶材组件，所述靶材表面的比较高点和比较低点的垂直距离为6mm；所述靶材表面的硬度为30hv；

为了减少靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的性能，通常要求靶材具有较高的密度。

溅射镀膜不良膜层分析，改善方法： 1.白雾主要表现：膜层外观一层白雾。 原因分析及改善：（白雾可擦拭）：外层膜松散粗糙；出炉温差大；潮气吸附；膜层结构不均匀；反应气体不足/不均匀；外层膜应力大等。     （白雾不可擦拭）：残留脏污；材腐蚀污染；膜层之间不匹配；反应气体不足/不均匀；基材受潮污染；真空室脏有水汽；环境温差大。 2.发蒙主要表现：膜层表面粗糙无光。 原因分析及改善：设备漏气；反应气体故障；膜层过厚；偏压故障；       3.色斑主要表现：局部膜色变异。 原因分析及改善：腐蚀，局部折射率改变；前道工程夹具加工方法痕迹（形状规则、部位一致、界限分明）； 周转运输库存过程留下痕迹；研磨抛光残留；多层膜系中，部分膜层过薄；机组微量返油。 4.打火 5.碰擦伤主要表现：划痕碰伤。 原因分析及改善：划痕有膜层：镀前碰擦伤；划痕无膜层（漏基材）：镀后碰擦伤。换靶材后需要重新调功率匹配器的，只有功率匹配调好了才能正常起辉。南京铬镍靶材

反应溅射气体的溅射效率本来就比惰性气体的溅射效率低，所以反应气体比例增加后，综合溅射速率降低。镇江ZrC靶材工厂

铝钪合金靶材（AlSc)，尺寸按需求定制，比列按需求定制，含钪比较高能做到AlSc45wt%，质量优异，杂质含量低，欢迎新老客户来电咨询洽谈。

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相关靶材清单如下：

稀土合金靶材 ：

铝钪AlSc;铈钆CeGd;铈镁CeMg;铈钐CeSm;镝钴DyCo;镝铁DyFe; 钆铜GdCu;钆铁GdFe;钬铜HoCu;镧铝LaAl;镧镍LaNi;铝钕AlNd;钕铁NdFe;钕铁硼NdFe；镍镁铈NiMgCe;镍镁铁铈NiMgFeCe;铽镝铁TbDyFe;铽铁TbFe;钇铝YAl;钇铜YCu;钇铁YFe;钇镁YMg;钇镍YNi;钇锆ZrY 镇江ZrC靶材工厂

江阴典誉新材料科技有限公司地处江苏省江阴市，是一家专业生产溅射靶材和蒸发材料的公司，溅射靶材充分借鉴国外的先进技术，并通过与国内外**研发机构合作，整合各行业资源优势，生产出多系列***溅射靶材产品。 公司目前主要生产金属，合金，陶瓷三大类靶材产品。经过几年的发展和技术积累，已经拥有：真空热压，冷压烧结，真空熔炼，热等静压，等离子喷涂等技术。另外也可根据客户要求研发新型靶材并提供靶材金属化、绑定和背板服务。 江阴典誉新材料科技有限公司已为以下行业提供***的靶材：平面显示、装饰与工具、太阳能光伏和光热、电子和半导体、建筑与汽车玻璃大面积镀膜等工业领域。同时也为国内外各大院校和研究所提供了很多常规和新型的试验用靶材。 江阴典誉目前拥有真空热压炉两台，冷压烧结炉一台，真空熔炼设备两台，等静压设备一台，等离子喷涂两套，绑定平台两套，各类机加工设备七台，检验设备若干，确保出厂的每件产品都能达到甚至超过客户的预期。 江阴典誉秉承：“一切以客户的需求为导向，客户的所有需求一次做好。”的发展理念。