无锡硒靶材定制

3D玻璃渐变色的应用 3D玻璃渐变色主要应用于3C产品，特别是手机领域。随着双玻璃加金属边框的盛行，3D后盖装饰工艺需要不断革新。现有的装饰工艺主要是在装饰防爆膜上进行镀膜丝印，再与3D玻璃贴合实现装饰效果，外观装饰主要还是防爆膜纹理和镀膜颜色搭配实现。渐变色效果可以通过多种途径实现，包括：印刷、转印、真空镀膜、喷涂等。由于技术的瓶颈问题，现在量产的3D玻璃渐变主要有印刷和真空镀膜两种途径。 渐变效果可大致分为同色渐变、邻近色渐变、对比色渐变。渐变颜色的选择对于印刷工艺的限制会小一些，选择范围更加宽。印刷工艺可以选择对应颜色及对应颜色带范围进行印刷，能够实现较为多元化的色彩冲撞效果，满足设计者的不同变色需求；作为手机多会选择的真空镀膜装饰工艺，对于渐变色的装饰效果也可以达到梦幻流畅的效果，但色彩变化会有一定限制。 真空镀膜渐变只能遵循颜色光谱变化规律：红橙黄绿蓝靛紫顺序渐变，难以实现颜色的跨越，当然，有的设计者也会通过其他工艺的叠加实现更多元化的渐变效果。熔融铸造法是制作溅射靶材的基本方法之一。无锡硒靶材定制

磁控溅射离子镀   (1)在基体和工件上是否施加(直流或脉冲)负偏压，利用负偏压对离子的吸引和加速作用，是离子镀与其它镀膜类型的一个主要区别。蒸发镀时基体和工件上加有负偏压就是蒸发离子镀 ;多弧镀时基体和工件上加有负偏压就是多弧离子镀;磁控溅射时基体和工件上加有负偏压就是磁控溅射离子镀，这是磁控溅射离子镀技术的一个重要特点。   (2)磁控溅射离子镀是把磁控溅射和离子镀结合起来的技术。在同一个真空腔体内既可实现氩离子对磁控靶材的稳定溅射，又实现了高能靶材离子在基片负偏压作用下到达基片进行轰击、溅射、注入及沉积作用过程。整个镀膜过程都存在离子对基片和工件表面的轰击，可有效基片和工件表面的气体和污物;使成膜过程中，膜层表面始终保持清洁状态。   (3) 磁控溅射离子镀可以在膜-基界面上形成明显的混合过渡层(伪扩散层)，提高膜层附着强度;可以使膜层与工件形成金属间化合物和固熔体，实现材料表面合金化，甚至出现新的晶相结构。   (4)磁控溅射离子镀形成膜层的膜基结合力好、膜层的绕镀性好、膜层组织可控参数多、膜层粒子总体能量高，容易进行反应沉积，可以在较低温度下获得化合物膜层。淮安CrSi靶材贴合如果反应气体量增加过度，化合物覆盖面积增加。

锌锡合金，锌铝合金，锡镉合金，铜铟合金，铜铟镓合金，铜镓合金，以及锡，钼，钛等旋转靶材 高纯铝靶材Al 高纯铜靶材Cu 高纯铁靶材Fe 高纯钛靶材Ti 高纯镍靶材Ni 高纯镁靶材Mg高纯铬靶材Cr 高纯锌靶材Zn 高纯银靶材Ag 高纯钴靶材Co 高纯铌靶材Nb 高纯锡靶材Sn 高纯铟靶材In 高纯锆靶材Zr 高纯钽靶材Ta 高纯锗靶材Ge 高纯硅靶材Si 高纯钨靶材W 高纯铪靶材Hf 高纯钇靶材Y 高纯钆靶材Gd 高纯钐靶材Sm 高纯镝靶材Dy 高纯铈靶材Ce 高纯镧靶材La 高纯金靶材Au 高纯不锈钢靶材高纯石墨靶材C 高纯硒靶材Se高纯钼靶材Mo 高纯合金溅射靶材 二元合金靶 镍铬靶Ni-Cr 镍铁靶Ni-Fe 镍钴靶Ni-Co 镍锆靶Ni-Zr 镍铝靶Ni-Al镍铜靶Ni-Cu 镍钒靶Ni-V铜铟靶Cu-In 铜镓靶Cu-Ga 铜硒靶Cu-Se 钛铝靶Ti-Al 铝硅靶Al-Si 铝铜靶Al-Cu 铝钛靶Al-Ti 铝镁靶Al-Mg 银铜靶Ag-Cu 铁锰靶Fe-Mn 铟锡靶In-Sn 钴铁靶Co-Fe钨钛靶W-Ti 锌铝靶Zn-Al 铝钪靶Al-Sc 铜锡靶Cu-Sn 锆铝靶Zr-Al 锆铁靶Zr-Fe 锆硅靶Zr-Si 钒铝靶V-Al硼铁靶B-Fe 铝硅靶Al-Si 硼铁靶 B-Fe 多元合金靶 钴铁硼靶Co-Fe-B 铜铟镓靶Cu-In-Ga铜铟镓硒靶Cu-In-Ga-Se等。 旋转靶材用途 编辑 太阳能电池，建筑玻璃，汽车玻璃，半导体，平板电视等。

纯度：纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”、 8”发展到12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求，而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。

杂质含量：靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。  需要后续热加工和热处理工艺降低其孔隙率。

 陶瓷靶材：

ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、溅射靶材氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、溅射靶材等。 靶材的密度不仅影响溅射速率，还影响着薄膜的电学和光学性能。冰晶靶材贴合

ITO、SiO2、陶瓷脆性靶材及烧结靶材。无锡硒靶材定制

主要产品： 1、钯 颗粒 99.99% 常规尺寸：φ3*6mm；量大可定做 2、钯 靶材 99.99%‍  常规尺寸：φ50*1mm；φ60*3mm；φ76.2*4mm等，尺寸可定做 3、电镜钯片 常规尺寸：φ57*0.1mm *0.2mm 4、钯 箔片 99.9 2mm等，尺寸可定做 二、其他 ： 打穿的钯靶材、钯残料可提供回收再加工 。 回收流程如下： 称重----清洗、提纯---熔炼加工---靶材等成品 高纯靶,靶靶材钯颗粒,钯粉,钯靶材 产品编码 产品名称 规格 应用 Sc-I4006 钪 x 真空熔炼 Li-G30610 锂 颗粒 99.9% φ6*10mm 真空熔炼 Sr-I2011 锶 块状 99% 氮气包装 真空熔炼 Mg-G3514 镁 颗粒 99.93% 4mm类球形 真空熔炼 Mg-I3503 镁 块状 99.95%  200g/块 真空熔炼 Fe-G3533 铁 颗粒 99.95% φ3*3mm 真空熔炼 Cr-G3501 mm 真空熔炼 Al-G4066 铝 颗粒 99.99% φ6*6mm 真空熔炼 Cu-G5033 铜 颗粒 99.999% φ3*3mm 真空熔炼 Cu-G3533 铜 颗粒 99.95% φ3*3mm 真空熔炼 Ti-G3033 钛 颗粒 99.9% φ3*3mm 真空熔炼 Ni-G3025 镍 颗粒 99.9% φ2*5mm 真空熔炼 V-G3015 钒 颗粒 99.9% 树枝状 真空熔炼 Mn-F2701无锡硒靶材定制

江阴典誉新材料科技有限公司地处江苏省江阴市，是一家专业生产溅射靶材和蒸发材料的公司，溅射靶材充分借鉴国外的先进技术，并通过与国内外**研发机构合作，整合各行业资源优势，生产出多系列***溅射靶材产品。 公司目前主要生产金属，合金，陶瓷三大类靶材产品。经过几年的发展和技术积累，已经拥有：真空热压，冷压烧结，真空熔炼，热等静压，等离子喷涂等技术。另外也可根据客户要求研发新型靶材并提供靶材金属化、绑定和背板服务。 江阴典誉新材料科技有限公司已为以下行业提供***的靶材：平面显示、装饰与工具、太阳能光伏和光热、电子和半导体、建筑与汽车玻璃大面积镀膜等工业领域。同时也为国内外各大院校和研究所提供了很多常规和新型的试验用靶材。 江阴典誉目前拥有真空热压炉两台，冷压烧结炉一台，真空熔炼设备两台，等静压设备一台，等离子喷涂两套，绑定平台两套，各类机加工设备七台，检验设备若干，确保出厂的每件产品都能达到甚至超过客户的预期。 江阴典誉秉承：“一切以客户的需求为导向，客户的所有需求一次做好。”的发展理念。