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PECVD 制备氢化非晶硅薄膜 本实验采用单晶硅片为衬底,按石英玻璃基片的清洗步骤清洗后烘干,然后置于PECVD系统中。样品制备条件为衬底温度250℃,工作气压120 Pa, 射频功率100 W, 气体流量SiH4/H2=15/5 sccm, 沉积时间30min, 制备得到a- Si:H 薄膜样品。 (1) 非晶硅薄膜的表面粗糙度会随着溅射功率的增大而增大,膜的均匀性将会变差; (2) 非晶硅薄膜的表面粗糙度随着衬底加热温度的增大而减小,非晶硅薄膜均匀性变好; (3) 在0.5 Pa 至2.0 Pa范围内,随着氩气气压的增加非晶硅薄膜的表面粗糙度稍微变大; (4) 随着溅射时间的增加, 膜的厚度成非线性增加,沉积速率开始较快,之后逐渐减慢,膜的表面粗糙度逐渐变大; (5)随着溅射气压的增大,沉积速率有所降**备过程严格控制杂质元素的引入。无锡V靶材图片
靶材的比较大厚度为20-30mm;所述靶材组件还包括用于固定靶材的背板;所述靶材呈凹形结构;所述靶材包括用于溅射的溅射面;所述溅射面包括平面、第二平面和斜面;所述斜面与水平面的夹角≤10°;所述斜面位于所述***平面和第二平面之间;所述平面为圆形;所述第二平面为环形;所述靶材的材质包括铝、钽、钛或铜中的一种;所述背板的材质包括铜和/或铝。与现有技术方案相比,本发明具有以下有益效果:本发明中,通过调整靶材表面的高度差及硬度,利用二者之间的协同效果保证溅射强度,使得溅射过程中薄膜厚度均匀,使用寿命增加。下面对本发明进一步详细说明。但下述的实例**是本发明的简易例子,并不**或限制本发明的权利保护范围,本发明的保护范围以权利要求书为准。具体实施方式为更好地说明本发明,便于理解本发明的技术方案,本发明的典型但非限制性的实施例如下:实施例1本实施例提供一种长寿命靶材组件,所述靶材表面的比较高点和比较低点的垂直距离为;所述靶材表面的硬度为23hv 无锡V靶材图片采用中频电源或射频电源。
ITO薄膜制作过程中的影响因素 ITO薄膜在溅镀过程中会产生不同的特性,有时候表面光洁度比较低,出现“麻点”的现象,有时候会出现高蚀间隔带,在蚀刻时还会出现直线放射型缺划或电阻偏高带,有时候会出现微晶沟缝。 常用的ITO靶材是通过烧结法生产的,就是由氧化铟(In2O3)和氧化锡(SnO2)粉末按照一定的比例进行混合,通常质量比是90%In2O3和10% SnO2,形成的黑灰色陶瓷半导体(氧化铟锡,ITO)。一般通过外观就可以了解ITO靶材的质量,深灰色是好的,相反越黑质量越差,我国生产的ITO靶材质量还可以的是黑灰色的。 研究显示,在真空镀膜机ITO薄膜溅镀过程中,使用磁控溅射的方式,基底温度控制在200℃左右可以保证薄膜85%以上高可见光透过率下,电阻率达到低,而薄膜的结晶度也随着基底温度的提高而提高,晶粒尺寸也逐渐增大,超过200℃后透射率趋于减弱;使用电子束蒸镀的方式,随着退火温度升高,晶粒尺寸变大,表面形貌均一稳定,超过600℃后颗粒变得大小不一,形状各异,小颗粒团聚现象严重,薄膜表面形貌破坏。
根据客户需要的比例计算、配料。(严格按照需求比例进行配料,以便保证合金的成分比例,降低公差);根据元素的熔点、元素特性、用量等选择合适的熔炼炉工艺排期、熔炼;熔炼成型,根据客户要求大小进行破碎、切割等后期处理。 高纯靶,靶靶材钯颗粒,钯粉,钯靶材
规格说明: 产品规格 靶材可定制 产品数量 1000 包装说明 双层真空包装 价格说明 1000 ◆ 产品说明: 高纯靶,靶靶材钯颗粒,钯粉,钯靶材 钯,是银白色过渡金属,较软,有良好的延展性和可塑性,能锻造、压延和拉丝。块状金属钯能吸收大量氢气,使体积胀大,变脆乃至破裂成碎片。 原 子 量:106.4 密 度(20℃)/g•cm-3:12.02 熔 点/℃:1552 蒸发温度/℃:1460 沸 点/℃:3140 汽化温度/℃: 正离子堆积:靶中毒时,靶面形成一层绝缘膜。
PVD颜色膜之玫瑰金 玫瑰金,单从她那浪漫的名字,就能引起人们无数美妙的联想。在闪闪发光的黄金饰品与经典高雅的铂金饰品之后,色调柔和迷人的玫瑰金饰品渐成为时尚人士的“新宠”,以她特有的风格与文化,演绎出贵金属饰品的又一片崭新天地。通常玫瑰金由75%的黄金与其它合金组成(俗称三色金)。 硬度较纯金高,与传统的黄金和铂金相比,粉红色的玫瑰金不但能使有色宝石的色彩更加浓重,还体现了金属材质的精致、细腻。其粉红、玫瑰等暖色调给人们带来温暖与愉快;在款式上也是千姿百态,有心形、榄尖形、椭圆形、梨形、祖母绿形。各种风格迥异的饰品,可谓璀璨耀眼,女性无论是着职业装,还是晚礼服及吊带裙,与之相配都显出高雅的气质。 玫瑰金颜色近几年在手表行业非常流行,很多品牌都采用PVD在不锈钢表壳和表带上沉积玫瑰金涂层的方式进行,行业内叫IP玫瑰金,其工艺已经非常成熟。玫瑰金镀层一般有仿金层和玫瑰金层构成,底层的仿金层一般为TiCN,主要是增加玫瑰金的硬度和耐磨度。由金属靶面通过反应溅射工艺形成化合物的过程中,化合物是在哪里形成的呢?常州CdS靶材厂家
磁控溅射一定要求靶材表面要抛光吗?无锡V靶材图片
真空镀膜设备维修保养技巧 1、真空镀膜设备每完成200个镀膜程序以上,应清洁工作室一次。 方法:用烧碱(NaOH)饱和溶液反复擦洗真空室内壁,( 注意人体皮肤不可以直接接触烧碱溶液,以免灼伤)目的是使镀上去的膜料铝(AL)与NaOH发生反应,反应后膜层脱落,并释放出氢气。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽阀内的污垢。 2、当粗抽泵(滑阀泵,旋片泵)连续工作一个月(雨季减半),需更换新油。 方法:拧开放油螺栓,放掉旧油,再将泵启动数秒,使泵内的旧油完全排放出来。拧回放油螺栓,加入新油至额定量(油视镜观察)。连续使用半年以上,换油时应将油盖打开,用布擦干净箱内污垢。 3、扩散泵连续使用6个月以上,抽速明显变慢。 扩散泵连续使用6个月以上,抽速明显变慢,或操作失当,充入大气,拆去联结水管,卸下电炉盘,将一级喷嘴拧出,先用汽油将泵腔及泵胆清洗一遍,再用洗衣粉兑水清洗一遍,然后用清水彻底清洗干净,待水份挥发干以后,装好泵胆,加入新扩散泵油,并装回机体,接好水管,装好电炉盘,便可以重新开机。在重新开机前,要注意检漏工作。无锡V靶材图片
江阴典誉新材料科技有限公司地处江苏省江阴市,是一家专业生产溅射靶材和蒸发材料的公司,溅射靶材充分借鉴国外的先进技术,并通过与国内外**研发机构合作,整合各行业资源优势,生产出多系列***溅射靶材产品。 公司目前主要生产金属,合金,陶瓷三大类靶材产品。经过几年的发展和技术积累,已经拥有:真空热压,冷压烧结,真空熔炼,热等静压,等离子喷涂等技术。另外也可根据客户要求研发新型靶材并提供靶材金属化、绑定和背板服务。 江阴典誉新材料科技有限公司已为以下行业提供***的靶材:平面显示、装饰与工具、太阳能光伏和光热、电子和半导体、建筑与汽车玻璃大面积镀膜等工业领域。同时也为国内外各大院校和研究所提供了很多常规和新型的试验用靶材。 江阴典誉目前拥有真空热压炉两台,冷压烧结炉一台,真空熔炼设备两台,等静压设备一台,等离子喷涂两套,绑定平台两套,各类机加工设备七台,检验设备若干,确保出厂的每件产品都能达到甚至超过客户的预期。 江阴典誉秉承:“一切以客户的需求为导向,客户的所有需求一次做好。”的发展理念。
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