无锡钙镁锌靶材费用
玫瑰金靶材有哪些? PVD玫瑰金是靠溅射玫瑰金靶形成的,不同的玫瑰金靶配方颜色上有一些区别,大概分为以下几种: 1、皇冠金(crown gold),黄金含量在22K(91.667%),由英国亨利八世(1526年)将此比例的黄金用于金币的铸造 2、常见的也是典型的18K玫瑰金,黄金含量也在18K(75%),但其它另含有约4%的银和21%的铜,呈现美丽的淡粉玫瑰色 3、14K红金,黄金含量在14K(58.33%),其它添加金属为铜(41.67%)。 有的PVD镀膜厂玫瑰金靶也有添加一些其它的稀有元素,用来达到不同的色调或用来改变镀层的性能,这也是市面上每一家PVD厂镀出的色调都有一些差异的原因之一。溅射出靶材的原子、原子团、离子、电子、光子等,原子、离子、原子团沉积到基材上形成薄膜。无锡钙镁锌靶材费用
所得靶材组件溅射强度好,使得溅射过程中薄膜厚度均匀,使用寿命增加。
实施例3提供一种长寿命靶材组件,所述靶材表面的比较高点和比较低点的垂直距离为5.8mm;所述靶材表面的硬度为22hv;
其中,所述靶材的比较大厚度为28mm;所述靶材组件还包括用于固定靶材的背板;所述靶材呈凹形结构;所述靶材包括用于溅射的溅射面;所述溅射面包括平面、第二平面和斜面;所述斜面与水平面的夹角为3°;所述斜面位于所述平面和第二平面之间;所述平面为圆形;所述第二平面为环形;所述靶材的材质包括钽;所述背板的材质包括铜。
所得靶材组件溅射强度好,使得溅射过程中薄膜厚度均匀,使用寿命增加。
实施例4提供一种长寿命靶材组件,所述靶材表面的比较高点和比较低点的垂直距离为5.9mm;所述靶材表面的硬度为25hv; 南通SiCr靶材在受到离子轰击之后,释放的二次电子数量增加,提高空间的导通能力,降低等离子体阻抗,导致溅射电压降低。
中频双靶反应磁控溅射与直流反应磁控溅射相比具有以下几个显巨优点: (1)消除了靶面打弧放电现象,中频反应磁控溅射镀制的绝缘薄膜与直流反应磁控溅射镀制的同种膜相比,膜面缺 陷要少几个数量级; (2)可以得到比直流反应磁控溅射高出数倍的溅射沉积速率; (3)中频双靶反应磁控溅射的整个溅射沉积过程,可以始终稳定在所设定的工作点上,为大规模工业化稳定生产提供了条件。 选用非对称双极脉冲靶电源与选用“双靶-中频靶电源”不同,使用单个磁控靶进行反应磁控溅射,调节相应的镀膜工艺参数,可以消除磁控靶面打弧放电现象和实现长时间稳定的薄膜沉积,可以达到上述“中频-双靶反应磁控溅射”的同样效果。
所述靶材的比较大厚度为23mm;所述靶材组件还包括用于固定靶材的背板;所述靶材呈凹形结构;所述靶材包括用于溅射的溅射面;所述溅射面包括***平面、第二平面和斜面;所述斜面与水平面的夹角为1°;所述斜面位于所述***平面和第二平面之间;所述***平面为圆形;所述第二平面为环形;所述靶材的材质包括铝;所述背板的材质包括铜和铝。
所得靶材组件溅射强度好,使得溅射过程中薄膜厚度均匀,使用寿命增加。
实施例6
本实施例提供一种长寿命靶材组件,所述靶材表面的比较高点和比较低点的垂直距离为5.95mm;所述靶材表面的硬度为23hv;
其中,所述靶材的比较大厚度为27mm;所述靶材组件还包括用于固定靶材的背板;所述靶材呈凹形结构;所述靶材包括用于溅射的溅射面;所述溅射面包括***平面、第二平面和斜面;所述斜面与水平面的夹角为3°;所述斜面位于所述***平面和第二平面之间;所述***平面为圆形;所述第二平面为环形;所述靶材的材质包括钽;所述背板的材质包括铝。 靶材太薄、靶材太贵的情况等。 但下列情况绑定有弊端。
在其他实施例中,所述固定板200内侧面弯折处呈弧状,所述防护层400弯折处呈弧状,位于所述固定板200弯折处的所述抛光片300的厚度均匀。
此外,与前一实施例不同的是,所述抛光片部分310、抛光片第二部分320及抛光片第三部分330为一体成型。且所述抛光片部分310、抛光片第二部分320及抛光片第三部分330厚度相等。
所述靶材600呈长方体状,其顶部表面为靶材溅射面610,底部表面为靶材焊接面620,所述靶材焊接面620贴合于背板表面上,所述靶材600通过所述靶材焊接面620与背板焊接固定。所述靶材600具有四个侧壁表面630。 靶材安装及注意事项有哪些?南通SiCr靶材
熔融铸造法是制作溅射靶材的基本方法之一。无锡钙镁锌靶材费用
作为本发明推荐的技术方案,所述靶材的比较大厚度为28-30mm,例如可以是28mm、28.1mm、28.2mm、28.3mm、28.4mm、28.5mm、28.6mm、28.7mm、28.8mm、28.9mm、29mm、29.1mm、29.2mm、29.3mm、29.4mm、29.5mm、29.6mm、29.7mm、29.8mm、29.9mm或30mm等,但不限于所列举的数值,该范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明推荐的技术方案,所述靶材组件还包括用于固定靶材的背板。
作为本发明推荐的技术方案,所述靶材呈凹形结构。
作为本发明推荐的技术方案,所述靶材包括用于溅射的溅射面。
推荐地,所述溅射面包括***平面、第二平面和斜面。
作为本发明推荐的技术方案,所述斜面与水平面的夹角≤10°,例如可以是10°、9°、8°、7°、6°、5°、4°、3°、2°或1°等,但不限于所列举的数值,该范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明推荐的技术方案,所述斜面位于所述***平面和第二平面之间。
推荐地,所述平面为圆形。
推荐地,所述第二平面为环形。 无锡钙镁锌靶材费用
江阴典誉新材料科技有限公司地处江苏省江阴市,是一家专业生产溅射靶材和蒸发材料的公司,溅射靶材充分借鉴国外的先进技术,并通过与国内外**研发机构合作,整合各行业资源优势,生产出多系列***溅射靶材产品。 公司目前主要生产金属,合金,陶瓷三大类靶材产品。经过几年的发展和技术积累,已经拥有:真空热压,冷压烧结,真空熔炼,热等静压,等离子喷涂等技术。另外也可根据客户要求研发新型靶材并提供靶材金属化、绑定和背板服务。 江阴典誉新材料科技有限公司已为以下行业提供***的靶材:平面显示、装饰与工具、太阳能光伏和光热、电子和半导体、建筑与汽车玻璃大面积镀膜等工业领域。同时也为国内外各大院校和研究所提供了很多常规和新型的试验用靶材。 江阴典誉目前拥有真空热压炉两台,冷压烧结炉一台,真空熔炼设备两台,等静压设备一台,等离子喷涂两套,绑定平台两套,各类机加工设备七台,检验设备若干,确保出厂的每件产品都能达到甚至超过客户的预期。 江阴典誉秉承:“一切以客户的需求为导向,客户的所有需求一次做好。”的发展理念。
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