真空热处理高温气氛炉价格

大家需要注意的是，操作箱式电阻炉时请参照控制器说明书中接线图连接电源线、电炉线、补偿导线。线接妥后，新的真空气氛炉使用前请按以下程序烘炉。真空气氛炉第1次使用或长时间不用后，要在120℃左右烘烤1小时，在300℃左右烘烤2小时后使用，以免造成炉膛开裂。气氛炉炉温尽量不要超过额定温度，以免损坏加热元件及炉衬。禁止向管式气氛炉的炉膛内直接灌注各种液体及溶解金属，保持炉内的清洁。真空气氛炉的炉膛若采用刚玉炉管，依据刚玉材料的物理性质，各温区的升﹑降温速率不宜过快(≤5)，严禁在炉管100℃以上取送物料，有利于炉管的热应力的均匀释放，以延长气氛炉炉管的使用寿命。炉膛若采用石英管，当温度高于1000℃时，石英管的高温部分会出现不透明现象，这叫失透(又叫析晶性)是连熔石英管的一个固有缺陷，属正常现象。真空气氛炉的性能特点介绍：升温速率：升温速度快，升温速率30℃/每分钟，建议20℃/每分钟。真空热处理高温气氛炉价格

气氛炉炉体内部形成一个负压的真空环境，在机体内填充热媒水。通过燃烧或其它方式加热热媒水，再由热媒水蒸发-冷凝至换热器上，再由换热器来加热需要加热的水。真空气氛炉是用于在真空环境中进行加热的设备，主要用于陶瓷烧成、真空炼、电真空零件除气、退火、金属件的钎焊，以及陶瓷-金属封接等。真空气氛炉炉体分上下两部分。上半部分为真空室(负压蒸汽室)，其空间内装设有管式汽-水热交换器，用来加热流过换热器中的循环水。真空热水锅炉运行时，在真空负压下炉体内的热媒水吸收燃料燃烧释放的热能，沸腾汽化为低温蒸汽，低温蒸汽上升遇到不锈钢换热器中的系统循环水，加热循环水送给用户用于采暖或卫生热水。水蒸气自身被冷却凝结成水滴下落到热媒水面后再一次被加热，从而完成了整个循环过程。钢包式真空气氛炉生产厂家气氛炉炉口设计有水冷却装置，配备有双头带阀进气口、保护罩、气体流量计、硅胶管、真空压力表等。

气氛炉额定温度分别为1100℃、1350℃、1650℃，使用电阻丝、硅碳棒、硅钼棒为加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。硅碳棒温度上升到1350℃以后电阻急速增加，机械强度也下降。而且根据气体干湿的不同寿命也差别很大；温度超过1400℃时氮气与碳化硅反应生成氮化硅，使硅碳棒变脆，寿命缩短。

真空热处理是指热处理工艺的全部和部分在真空状态下进行的，真空热处理可以实现几乎所有的常规热处理所能涉及的热处理工艺，但热处理质量提高。与常规热处理相比，真空热处理的同时，可实现无氧化、无脱碳、无渗碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脱脂除气等作用，从而达到表面光亮净化的效果。真空气氛炉普遍用于高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业对陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材、金属、非金属及其它化和物材料进行烧结﹑融化﹑分析、生产而研制的设备。测量真空气氛炉温均匀性时，应注意测温触点的定位捆绑方式，以及距加热元件的远近。

真空烧结炉以钼丝为加热元件，采用双层壳体结构和PID30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用软质和硬质碳纤维材料，能快速升降温。采用外壳整体密封，盖板和炉门密封均采用高温硅胶O型圈，炉门处装有水冷系统。该炉必须在真空下烧结，该炉采用机械泵及油扩散泵，同时设有冷阱及机组，该炉具有体积小、温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、价格优惠、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做真空烧结用的理想产品。设备用于各种合金材料、器件、钕铁硼磁性材料、钐钴磁性材料、储氢合金、活性与难熔金属的真空烧结、时效等处理。该设备是在消化吸收国外设备优点的基础上，历经多次改进和完善，采用独特的内部气流循环方式和较大的真空机组，具有冷却均匀、速度快、炉温均匀性好、大抽气量、温度均匀可控、高真空度和无渗漏等特点。真空气氛炉及控制柜都要保证接地。真空气氛烧结炉生产

气氛炉还可用于、复合材料、粉体材料、结构陶瓷、合金的真空热压烧结。真空热处理高温气氛炉价格

真空气氛炉又叫无氧退火炉、真空气氛烧结炉等，可分为管式真空气氛炉和箱式真空气氛炉两种结构。是采用把物体在通入一定气体的炉膛内进行烧结的设备。一般由炉膛、电热装置、密封炉壳、真空系统、供电系统和控温系统等组成。真空气氛炉常用的有真空、氢、氧、氮和惰性气体（如氩）等各种气氛。真空气氛炉是一种将真空技术与热处理技术相结合的新型热处理技术，与常规热处理相比，真空热处理的同时，可实现无氧化、无脱碳、无渗碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脱脂除气等作用，从而达到表面光亮净化的效果。其工作原理是把物体在通入一定气体的炉膛内进行烧结的方法进行。真空热处理是指热处理工艺的全部和部分在真空状态下进行，其中包括低真空、中等真空、高真空和超高真空等，真空热处理可以实现几乎所有的常规热处理所能涉及的热处理工艺，但热处理质量较大提高，实际上真空热处理也是属于气氛控制热处理范畴。对于真空气氛炉来说由于其气氛的形式有很多种，因此需根据物料的特性来选择合适的气氛形式，例如透明氧化铝陶瓷可用氢气氛烧结，透明铁电陶瓷宜用氧气氛烧结，氮化物陶瓷如氮化铝等宜用氮气氛烧结。有时为保护烧结调协也须在保护气氛中操作真空热处理高温气氛炉价格