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与金属镀层间的附着性差
塑料与金属镀层间的附着性差首先是由于塑料的表面能一般都比较低,表面极性差;其次塑料易带静电,表面容易吸附灰尘,同时塑料零件又软,化学稳定性差,不易得到真正清洁的表面,而塑料表面的清洁度是影响塑料与金属镀层间附着力的重要因素。第三,即使保持了塑料表面的清洁,由于塑料与金属的膨胀系数相差一个数量级,在成膜过程中或成膜后,温度变化会产生热应力,应力过大将会使镀层开裂甚至脱落。此外,由于沉积过程中金属膜结构受到工艺等因素的影响致使其内部产生一定的内应力,当内应力很大时,膜料沉积到塑料表面后,内应力会转移到金属镀层上来,从而降低镀层的稳定性,甚至使镀层开裂、起皱。为解决金属镀层与塑料基体的结合问题,保证镀层与塑料表面具有良好结合力,真空镀膜时,采用在塑料表面涂上与镀膜金属有亲和力的底涂层,或者对塑料表面进行电晕放电活化处理。 真空镀膜机采购,哪家便宜?福建品牌真空镀膜机报价
弧放电离子源
在均匀磁场中,由阴极热发射电子维持气体放电的离子源。为了减少气耗,放电区域往往是封闭的。阳极做成筒形,轴线和磁场方向平行。磁场能很好地约束阴极所发射的电子流,在阳极腔中使气体的原子(或分子)电离,形成等离子体密度很高的弧柱。离子束可以垂直于轴线方向的侧向引出,也可以顺着轴线方向引出。
阳极层离子源
若是镀工具耐磨层,一般厚度较大而对膜厚均匀性要求不高,可采用离子电流较大能级也较高的离子源,如霍尔离子源或阳极层离子源。阳极层离子源,与霍尔离子源原理近似。在一条环形(长方形或圆形)窄缝中施加强磁场,在阳极作用下使工作气体离子化并在射向工件。阳极层离子源可以做得很大很长,特别适合镀大工件,如建筑玻璃。阳极层离子源离子电流也较大。但其离子流较发散,且能级分布太宽。一般适用于大型工件,玻璃,磨损,装饰工件。但应用于光学镀膜并不太多。
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蒸发式真空镀膜机的工作原理:通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为蒸发镀膜。这种方法较早由M.法拉第于1857年提出,现代已成为常用镀膜技术之知一。 蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源,待镀工件,如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后,加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子道以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发专源的蒸发速率和时间(或决定于装料量),并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜,常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的属距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程,以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1~0.2电子伏。简言之,蒸发式真空镀膜机的工作原理就是真空室内利用电阻加热法,把紧紧贴在电阻丝上面的金属丝熔融汽化,汽化了的金属分子沉积于基片上,而获得光滑反射率的膜层,达到装饰美化物品表面的目的。
术语
1.1真空镀膜vacuumcoating:在处于真空下的基片上制取膜层的一种方法。
1.2基片substrate:膜层承受体。
1.3试验基片testingsubstrate:在镀膜开始、镀膜过程中或镀膜结束后用作测量和(或)试验的基片。
1.4镀膜材料coatingmaterial:用来制取膜层的原材料。
1.5蒸发材料evaporationmaterial:在真空蒸发中用来蒸发的镀膜材料。
1.6溅射材料sputteringmaterial:有真空溅射中用来溅射的镀膜材料。
1.7膜层材料(膜层材质)filmmaterial:组成膜层的材料。
1.8蒸发速率evaporationrate:在给定时间间隔内,蒸发出来的材料量,除以该时间间隔
1.9溅射速率sputteringrate:在给定时间间隔内,溅射出来的材料量,除以该时间间隔。
1.10沉积速率depositionrate:在给定时间间隔内,沉积在基片上的材料量,除以该时间间隔和基片表面积。
1.11镀膜角度coatingangle:入射到基片上的粒子方向与被镀表面法线之间的夹角。 上海真空镀膜机厂家,哪家专业?
真空镀膜设备在使用的过程中,它是会出现褐色条纹的情况,那么这种情况应该如何避免呢?下面真空镀膜设备厂家分析出现褐色条纹的原因。
①真空度低 解决方法:清洗真空室内的送铝、蒸镀设备、冷却体系、放卷、卷取设备及导辊;查看抽真空体系;下降环境湿度。
②薄膜释放气体。解决方法:薄膜预枯燥;延伸抽真空时刻。
③喷铝过多。解决方法:进步车速;下降蒸腾舟电流;下降送铝速度。
④蒸腾舟内有杂质。解决方法:清洗蒸腾舟及热屏蔽板。
⑤蒸腾舟老化。解决方法:替换蒸腾舟。 真空镀膜机设备专业供应商!江西**真空镀膜机直销
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工艺
2.1真空蒸膜vacuumevaporationcoating:使镀膜材料蒸发的真空镀膜过程。
2.1.1同时蒸发simultaneousevaporation:用数个蒸发器把各种蒸发材料同时蒸镀到基片上的真空蒸发。
2.1.2蒸发场蒸发evaporationfieldevaporation:由蒸发场同时蒸发的材料到基片上进行蒸镀的真空蒸发(此工艺应用于大面积蒸发以获得到理想的膜厚分布)。
2.1.3反应性真空蒸发reactivevacuumevaporation:通过与气体反应获得理想化学成分的膜层材料的真空蒸发。
2.1.4蒸发器中的反应性真空蒸发reactivevacuumevaporationinevaporator:与蒸发器中各种蒸发材料反应,而获得理想化学成分膜层材料的真空蒸发。
2.1.5直接加热的蒸发directheatingevaporation:蒸发材料蒸发所必须的热量是对蒸发材料(在坩埚中或不用坩埚)本身加热的蒸发。
2.1.6感应加热蒸发inducedheatingevaporation:蒸发材料通过感应涡流加热的蒸发。
2.1.7电子束蒸发electronbeamevaporation:通过电子轰击使蒸发材料加热的蒸发。 福建品牌真空镀膜机报价
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